Індукована оловом кристалiзацiя аморфного кремнiю при iмпульсному лазерному опромiненнi

Tin-induced crystallization of amorphous silicon in thin-film Si–Sn–Si structures under the influence of laser irradiation of various types has been studied, by using Raman scattering. The size and concentration dependences of Si nanocrystals on the power of 10-ns and 150-мs laser pulses with a wave...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Видавець:Publishing house "Academperiodika"
Дата:2018
Автори: Neimash, V. B., Melnyk, V., Fedorenko, L. L., Shepelyavyi, P. Ye., Strilchuk, V. V., Nikolenko, A. S., Isaiev, M. V., Kuzmych, A. G.
Формат: Стаття
Мова:English
Ukrainian
Опубліковано: Publishing house "Academperiodika" 2018
Теми:
Онлайн доступ:https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2018637
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!

Репозиторії

Ukrainian Journal of Physics
id ujp2-article-2018637
record_format ojs
spelling ujp2-article-20186372019-05-01T08:22:42Z Tin-Induced Crystallization of Amorphous Silicon Under Pulsed Laser Irradiation Індукована оловом кристалiзацiя аморфного кремнiю при iмпульсному лазерному опромiненнi Neimash, V. B. Melnyk, V. Fedorenko, L. L. Shepelyavyi, P. Ye. Strilchuk, V. V. Nikolenko, A. S. Isaiev, M. V. Kuzmych, A. G. сонячнi елементи тонкi плiвки нанокристали кремнiй олово металом iндукована кристалiзацiя solar cells thin films nanocrystals silicon tin metal-induced crystallization - Tin-induced crystallization of amorphous silicon in thin-film Si–Sn–Si structures under the influence of laser irradiation of various types has been studied, by using Raman scattering. The size and concentration dependences of Si nanocrystals on the power of 10-ns and 150-мs laser pulses with a wavelength of 535 or 1070 nm are experimentally measured and analyzed. A possibility of effective tin-induced transformation of silicon in a-Si layers 200 nm in thickness from the amorphous to crystalline phase within 10 ns time interval under the action of laser light pulses is demonstrated. The theoretical calculation of the spatial temperature distribution and its time evolution in the area of the laser beam action is used to interpret the experimental results. Методом комбiнацiйного розсiювання свiтла дослiджено процеси iндукованої оловом кристалiзацiї аморфного кремнiю в тонкоплiвкових структурах Si–Sn–Si пiд дiєю рiзних видiв iмпульсного лазерного опромiнення. Експериментально визначено та проаналiзовано залежностi розмiрiв та концентрацiї нанокристалiв Si вiд потужностi лазерних iмпульсiв тривалiстю 10 нс та 150 мкс з довжиною хвилi 535 нм та 1070 нм. Показано можливiсть ефективної iндукованої оловом трансформацiї кремнiю iз аморфної фази в кристалiчну за час порядку 10 нс в шарах a–Si товщиною 200 нм пiд дiєю iмпульсу лазерного свiтла. Теоретичний розрахунок просторового i часового розподiлу температур в зонi дiї лазерного променя використано для iнтерпретацiї експериментальних результатiв. Publishing house "Academperiodika" 2018-12-13 Article Article Peer-reviewed Рецензована стаття application/pdf application/pdf https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2018637 10.15407/ujpe62.09.0806 Ukrainian Journal of Physics; Vol. 62 No. 9 (2017); 806 Український фізичний журнал; Том 62 № 9 (2017); 806 2071-0194 2071-0186 en uk https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2018637/735 https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2018637/736 Copyright (c) 2018 Bogolyubov Institute for Theoretical Physics, National Academy of Sciences of Ukraine
institution Ukrainian Journal of Physics
collection OJS
language English
Ukrainian
topic сонячнi елементи
тонкi плiвки
нанокристали
кремнiй
олово
металом iндукована кристалiзацiя
solar cells
thin films
nanocrystals
silicon
tin
metal-induced crystallization
-
spellingShingle сонячнi елементи
тонкi плiвки
нанокристали
кремнiй
олово
металом iндукована кристалiзацiя
solar cells
thin films
nanocrystals
silicon
tin
metal-induced crystallization
-
Neimash, V. B.
Melnyk, V.
Fedorenko, L. L.
Shepelyavyi, P. Ye.
Strilchuk, V. V.
Nikolenko, A. S.
Isaiev, M. V.
Kuzmych, A. G.
Індукована оловом кристалiзацiя аморфного кремнiю при iмпульсному лазерному опромiненнi
topic_facet сонячнi елементи
тонкi плiвки
нанокристали
кремнiй
олово
металом iндукована кристалiзацiя
solar cells
thin films
nanocrystals
silicon
tin
metal-induced crystallization
-
format Article
author Neimash, V. B.
Melnyk, V.
Fedorenko, L. L.
Shepelyavyi, P. Ye.
Strilchuk, V. V.
Nikolenko, A. S.
Isaiev, M. V.
Kuzmych, A. G.
author_facet Neimash, V. B.
Melnyk, V.
Fedorenko, L. L.
Shepelyavyi, P. Ye.
Strilchuk, V. V.
Nikolenko, A. S.
Isaiev, M. V.
Kuzmych, A. G.
author_sort Neimash, V. B.
title Індукована оловом кристалiзацiя аморфного кремнiю при iмпульсному лазерному опромiненнi
title_short Індукована оловом кристалiзацiя аморфного кремнiю при iмпульсному лазерному опромiненнi
title_full Індукована оловом кристалiзацiя аморфного кремнiю при iмпульсному лазерному опромiненнi
title_fullStr Індукована оловом кристалiзацiя аморфного кремнiю при iмпульсному лазерному опромiненнi
title_full_unstemmed Індукована оловом кристалiзацiя аморфного кремнiю при iмпульсному лазерному опромiненнi
title_sort індукована оловом кристалiзацiя аморфного кремнiю при iмпульсному лазерному опромiненнi
title_alt Tin-Induced Crystallization of Amorphous Silicon Under Pulsed Laser Irradiation
description Tin-induced crystallization of amorphous silicon in thin-film Si–Sn–Si structures under the influence of laser irradiation of various types has been studied, by using Raman scattering. The size and concentration dependences of Si nanocrystals on the power of 10-ns and 150-мs laser pulses with a wavelength of 535 or 1070 nm are experimentally measured and analyzed. A possibility of effective tin-induced transformation of silicon in a-Si layers 200 nm in thickness from the amorphous to crystalline phase within 10 ns time interval under the action of laser light pulses is demonstrated. The theoretical calculation of the spatial temperature distribution and its time evolution in the area of the laser beam action is used to interpret the experimental results.
publisher Publishing house "Academperiodika"
publishDate 2018
url https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2018637
work_keys_str_mv AT neimashvb tininducedcrystallizationofamorphoussiliconunderpulsedlaserirradiation
AT melnykv tininducedcrystallizationofamorphoussiliconunderpulsedlaserirradiation
AT fedorenkoll tininducedcrystallizationofamorphoussiliconunderpulsedlaserirradiation
AT shepelyavyipye tininducedcrystallizationofamorphoussiliconunderpulsedlaserirradiation
AT strilchukvv tininducedcrystallizationofamorphoussiliconunderpulsedlaserirradiation
AT nikolenkoas tininducedcrystallizationofamorphoussiliconunderpulsedlaserirradiation
AT isaievmv tininducedcrystallizationofamorphoussiliconunderpulsedlaserirradiation
AT kuzmychag tininducedcrystallizationofamorphoussiliconunderpulsedlaserirradiation
AT neimashvb índukovanaolovomkristalizaciâamorfnogokremniûpriimpulʹsnomulazernomuoprominenni
AT melnykv índukovanaolovomkristalizaciâamorfnogokremniûpriimpulʹsnomulazernomuoprominenni
AT fedorenkoll índukovanaolovomkristalizaciâamorfnogokremniûpriimpulʹsnomulazernomuoprominenni
AT shepelyavyipye índukovanaolovomkristalizaciâamorfnogokremniûpriimpulʹsnomulazernomuoprominenni
AT strilchukvv índukovanaolovomkristalizaciâamorfnogokremniûpriimpulʹsnomulazernomuoprominenni
AT nikolenkoas índukovanaolovomkristalizaciâamorfnogokremniûpriimpulʹsnomulazernomuoprominenni
AT isaievmv índukovanaolovomkristalizaciâamorfnogokremniûpriimpulʹsnomulazernomuoprominenni
AT kuzmychag índukovanaolovomkristalizaciâamorfnogokremniûpriimpulʹsnomulazernomuoprominenni
first_indexed 2023-03-24T08:56:26Z
last_indexed 2023-03-24T08:56:26Z
_version_ 1795757639895875584