Комбiнацiйне розсiювання свiтла в процесi iндукованої оловом кристалiзацiї аморфного кремнiю

Metal-induced crystallization in Si–Sn–Si thin film structures has been studied, by using the Raman scattering at various light powers. The Raman spectra are used to monitor the temperature, size, and concentration of Si crystals formed in the amorphous Si matrix. A significant acceleration of the m...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Datum:2019
Hauptverfasser: Neimash, V., Dovbeshko, G., Shepelyavyi, P., Danko, V., Melnyk, V., Isaiev, M., Kuzmich, A.
Format: Artikel
Sprache:Englisch
Ukrainisch
Veröffentlicht: Publishing house "Academperiodika" 2019
Schlagworte:
Online Zugang:https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2019115
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Ukrainian Journal of Physics

Institution

Ukrainian Journal of Physics
_version_ 1863131273934929920
author Neimash, V.
Dovbeshko, G.
Shepelyavyi, P.
Danko, V.
Melnyk, V.
Isaiev, M.
Kuzmich, A.
author_facet Neimash, V.
Dovbeshko, G.
Shepelyavyi, P.
Danko, V.
Melnyk, V.
Isaiev, M.
Kuzmich, A.
author_sort Neimash, V.
baseUrl_str https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/oai
collection OJS
datestamp_date 2019-04-16T20:10:32Z
description Metal-induced crystallization in Si–Sn–Si thin film structures has been studied, by using the Raman scattering at various light powers. The Raman spectra are used to monitor the temperature, size, and concentration of Si crystals formed in the amorphous Si matrix. A significant acceleration of the metal-induced crystallization in Si–Sn–Si structures at their laser-assisted annealing in comparison with their annealing in dark is revealed. A basic possibility of the “on line” monitoring of the size and the concentration of Si nanocrystals in the course of their formation is demonstrated.
doi_str_mv 10.15407/ujpe61.02.0143
first_indexed 2025-10-02T01:15:52Z
format Article
id ujp2-article-2019115
institution Ukrainian Journal of Physics
keywords_txt_mv keywords
language English
Ukrainian
last_indexed 2025-10-02T01:15:52Z
publishDate 2019
publisher Publishing house "Academperiodika"
record_format ojs
spelling ujp2-article-20191152019-04-16T20:10:32Z Raman Scattering in the Process of Tin-Induced Crystallization of Amorphous Silicon Комбiнацiйне розсiювання свiтла в процесi iндукованої оловом кристалiзацiї аморфного кремнiю Neimash, V. Dovbeshko, G. Shepelyavyi, P. Danko, V. Melnyk, V. Isaiev, M. Kuzmich, A. solar cell thin films nanocrystals silicon tin metal-induced crystallization - сонячнi елементи тонкi плiвки нанокристали кремнiй олово металом iндукована кристалiзацiя Metal-induced crystallization in Si–Sn–Si thin film structures has been studied, by using the Raman scattering at various light powers. The Raman spectra are used to monitor the temperature, size, and concentration of Si crystals formed in the amorphous Si matrix. A significant acceleration of the metal-induced crystallization in Si–Sn–Si structures at their laser-assisted annealing in comparison with their annealing in dark is revealed. A basic possibility of the “on line” monitoring of the size and the concentration of Si nanocrystals in the course of their formation is demonstrated. Методом комбiнацiйного розсiювання свiтла рiзної потужностi поверхнею тонкоплiвкових структур Si–Sn–Si дослiджено процеси iндукованої оловом кристалiзацiї аморфного кремнiю. Аналiз спектрiв комбiнацiйного розсiювання використано для контролю температури, розмiру та концентрацiї кристалiв Si, що утворюються в матрицi аморфного Si в процесi вимiрювання спектрiв. Виявлено значне прискорення металом iндукованої кристалiзацiї при лазерному вiдпалi структур Si–Sn–Si порiвняно з вiдпалом у темрявi. Показано принципову можливiсть контролю в режимi “on line” розмiрiв i концентрацiї кристалiв Si в процесi їх формування. Publishing house "Academperiodika" 2019-01-08 Article Article Peer-reviewed Рецензована стаття application/pdf application/pdf https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2019115 10.15407/ujpe61.02.0143 Ukrainian Journal of Physics; Vol. 61 No. 2 (2016); 143 Український фізичний журнал; Том 61 № 2 (2016); 143 2071-0194 2071-0186 10.15407/ujpe61.02 en uk https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2019115/1026 https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2019115/1027 Copyright (c) 2019 Bogolyubov Institute for Theoretical Physics, National Academy of Sciences of Ukraine
spellingShingle сонячнi елементи
тонкi плiвки
нанокристали
кремнiй
олово
металом iндукована кристалiзацiя
Neimash, V.
Dovbeshko, G.
Shepelyavyi, P.
Danko, V.
Melnyk, V.
Isaiev, M.
Kuzmich, A.
Комбiнацiйне розсiювання свiтла в процесi iндукованої оловом кристалiзацiї аморфного кремнiю
title Комбiнацiйне розсiювання свiтла в процесi iндукованої оловом кристалiзацiї аморфного кремнiю
title_alt Raman Scattering in the Process of Tin-Induced Crystallization of Amorphous Silicon
title_full Комбiнацiйне розсiювання свiтла в процесi iндукованої оловом кристалiзацiї аморфного кремнiю
title_fullStr Комбiнацiйне розсiювання свiтла в процесi iндукованої оловом кристалiзацiї аморфного кремнiю
title_full_unstemmed Комбiнацiйне розсiювання свiтла в процесi iндукованої оловом кристалiзацiї аморфного кремнiю
title_short Комбiнацiйне розсiювання свiтла в процесi iндукованої оловом кристалiзацiї аморфного кремнiю
title_sort комбiнацiйне розсiювання свiтла в процесi iндукованої оловом кристалiзацiї аморфного кремнiю
topic сонячнi елементи
тонкi плiвки
нанокристали
кремнiй
олово
металом iндукована кристалiзацiя
topic_facet solar cell
thin films
nanocrystals
silicon
tin
metal-induced crystallization
-
сонячнi елементи
тонкi плiвки
нанокристали
кремнiй
олово
металом iндукована кристалiзацiя
url https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2019115
work_keys_str_mv AT neimashv ramanscatteringintheprocessoftininducedcrystallizationofamorphoussilicon
AT dovbeshkog ramanscatteringintheprocessoftininducedcrystallizationofamorphoussilicon
AT shepelyavyip ramanscatteringintheprocessoftininducedcrystallizationofamorphoussilicon
AT dankov ramanscatteringintheprocessoftininducedcrystallizationofamorphoussilicon
AT melnykv ramanscatteringintheprocessoftininducedcrystallizationofamorphoussilicon
AT isaievm ramanscatteringintheprocessoftininducedcrystallizationofamorphoussilicon
AT kuzmicha ramanscatteringintheprocessoftininducedcrystallizationofamorphoussilicon
AT neimashv kombinacijnerozsiûvannâsvitlavprocesiindukovanoíolovomkristalizaciíamorfnogokremniû
AT dovbeshkog kombinacijnerozsiûvannâsvitlavprocesiindukovanoíolovomkristalizaciíamorfnogokremniû
AT shepelyavyip kombinacijnerozsiûvannâsvitlavprocesiindukovanoíolovomkristalizaciíamorfnogokremniû
AT dankov kombinacijnerozsiûvannâsvitlavprocesiindukovanoíolovomkristalizaciíamorfnogokremniû
AT melnykv kombinacijnerozsiûvannâsvitlavprocesiindukovanoíolovomkristalizaciíamorfnogokremniû
AT isaievm kombinacijnerozsiûvannâsvitlavprocesiindukovanoíolovomkristalizaciíamorfnogokremniû
AT kuzmicha kombinacijnerozsiûvannâsvitlavprocesiindukovanoíolovomkristalizaciíamorfnogokremniû