Механiзми модифiкацiї профiлiв розподiлу домiшок при мас-спектрометричному аналiзi багатошарових наноструктур
Mechanisms of the spatial redistribution of components in a solid target at its ion bombardment have been analyzed theoretically. The influence of the ion mixing, crater shape, and surface roughness on the results of mass spectrometric measurements is simulated as a function of the ion energy. All t...
Saved in:
| Date: | 2019 |
|---|---|
| Main Authors: | , , , , , |
| Format: | Article |
| Language: | English Ukrainian |
| Published: |
Publishing house "Academperiodika"
2019
|
| Subjects: | |
| Online Access: | https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2019221 |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Journal Title: | Ukrainian Journal of Physics |
Institution
Ukrainian Journal of Physics| _version_ | 1863131295039619072 |
|---|---|
| author | Efremov, A. A. Litovchenko, V. G. Melnik, V. P. Oberemok, O. S. Popov, V. G. Romanyuk, B. M. |
| author_facet | Efremov, A. A. Litovchenko, V. G. Melnik, V. P. Oberemok, O. S. Popov, V. G. Romanyuk, B. M. |
| author_sort | Efremov, A. A. |
| baseUrl_str | https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/oai |
| collection | OJS |
| datestamp_date | 2019-04-11T08:03:46Z |
| description | Mechanisms of the spatial redistribution of components in a solid target at its ion bombardment have been analyzed theoretically. The influence of the ion mixing, crater shape, and surface roughness on the results of mass spectrometric measurements is simulated as a function of the ion energy. All the above-mentioned factors are shown to have a minimal impact on the sputtering of nano-sized Mo/Si multilayer periodic structures in the ion energy interval of 200–400 eV. Experimental studies of the dopant depth profiles and their comparison with simulation results allowed us to establish the optimum conditions for the mass spectrometric analysis and to measure the real dopant depth profiles with a depth resolution better than 1 nm. |
| doi_str_mv | 10.15407/ujpe60.06.0511 |
| first_indexed | 2025-10-02T01:16:10Z |
| format | Article |
| id | ujp2-article-2019221 |
| institution | Ukrainian Journal of Physics |
| keywords_txt_mv | keywords |
| language | English Ukrainian |
| last_indexed | 2025-10-02T01:16:10Z |
| publishDate | 2019 |
| publisher | Publishing house "Academperiodika" |
| record_format | ojs |
| spelling | ujp2-article-20192212019-04-11T08:03:46Z Mechanisms of Dopant Depth Profile Modification During Mass Spectrometric Analysis of Multilayer Nanostructures Механiзми модифiкацiї профiлiв розподiлу домiшок при мас-спектрометричному аналiзi багатошарових наноструктур Efremov, A. A. Litovchenko, V. G. Melnik, V. P. Oberemok, O. S. Popov, V. G. Romanyuk, B. M. моделювання iонне розпилення багатошаровi структури профiлi розподiлу мас-спектрометрiя simulation sputtering multilayer structure depth profile mass spectrometry - Mechanisms of the spatial redistribution of components in a solid target at its ion bombardment have been analyzed theoretically. The influence of the ion mixing, crater shape, and surface roughness on the results of mass spectrometric measurements is simulated as a function of the ion energy. All the above-mentioned factors are shown to have a minimal impact on the sputtering of nano-sized Mo/Si multilayer periodic structures in the ion energy interval of 200–400 eV. Experimental studies of the dopant depth profiles and their comparison with simulation results allowed us to establish the optimum conditions for the mass spectrometric analysis and to measure the real dopant depth profiles with a depth resolution better than 1 nm. Проведено теоретичний аналiз механiзмiв, якi призводять до просторового перерозподiлу компонентiв твердотiльної мiшенi пiд дiєю iонного бомбардування. Виконано моделювання впливу iонно-променевого перемiшування (ion-beam mixing), форми кратера розпилення та шорсткостi поверхнi на результати мас-спектрометричних вимiрювань залежно вiд енергiї розпилюючих iонiв. Показано, що в дiапазонi енергiй iонiв 200–400 еВ вплив згаданих факторiв є мiнiмальним для розпилення багатошарових нанорозмiрних перiодичних структур Mo/Si, виготовлених методом магнетронного напилення шарiв молiбдену i кремнiю. Експериментальнi дослiдження профiлiв розподiлу домiшок i порiвняння їх з результатами моделювання дозволило встановити оптимальнi режими мас-спектрометричного аналiзу, досягти роздiльної здатностi по глибинi краще 1 нм та отримати профiлi розподiлу домiшок, максимально наближенi до реальних. Publishing house "Academperiodika" 2019-01-17 Article Article Peer-reviewed Рецензована стаття application/pdf application/pdf https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2019221 10.15407/ujpe60.06.0511 Ukrainian Journal of Physics; Vol. 60 No. 6 (2015); 511 Український фізичний журнал; Том 60 № 6 (2015); 511 2071-0194 2071-0186 10.15407/ujpe60.06 en uk https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2019221/1199 https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2019221/1200 Copyright (c) 2019 Bogolyubov Institute for Theoretical Physics, National Academy of Sciences of Ukraine |
| spellingShingle | моделювання iонне розпилення багатошаровi структури профiлi розподiлу мас-спектрометрiя Efremov, A. A. Litovchenko, V. G. Melnik, V. P. Oberemok, O. S. Popov, V. G. Romanyuk, B. M. Механiзми модифiкацiї профiлiв розподiлу домiшок при мас-спектрометричному аналiзi багатошарових наноструктур |
| title | Механiзми модифiкацiї профiлiв розподiлу домiшок при мас-спектрометричному аналiзi багатошарових наноструктур |
| title_alt | Mechanisms of Dopant Depth Profile Modification During Mass Spectrometric Analysis of Multilayer Nanostructures |
| title_full | Механiзми модифiкацiї профiлiв розподiлу домiшок при мас-спектрометричному аналiзi багатошарових наноструктур |
| title_fullStr | Механiзми модифiкацiї профiлiв розподiлу домiшок при мас-спектрометричному аналiзi багатошарових наноструктур |
| title_full_unstemmed | Механiзми модифiкацiї профiлiв розподiлу домiшок при мас-спектрометричному аналiзi багатошарових наноструктур |
| title_short | Механiзми модифiкацiї профiлiв розподiлу домiшок при мас-спектрометричному аналiзi багатошарових наноструктур |
| title_sort | механiзми модифiкацiї профiлiв розподiлу домiшок при мас-спектрометричному аналiзi багатошарових наноструктур |
| topic | моделювання iонне розпилення багатошаровi структури профiлi розподiлу мас-спектрометрiя |
| topic_facet | моделювання iонне розпилення багатошаровi структури профiлi розподiлу мас-спектрометрiя simulation sputtering multilayer structure depth profile mass spectrometry - |
| url | https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2019221 |
| work_keys_str_mv | AT efremovaa mechanismsofdopantdepthprofilemodificationduringmassspectrometricanalysisofmultilayernanostructures AT litovchenkovg mechanismsofdopantdepthprofilemodificationduringmassspectrometricanalysisofmultilayernanostructures AT melnikvp mechanismsofdopantdepthprofilemodificationduringmassspectrometricanalysisofmultilayernanostructures AT oberemokos mechanismsofdopantdepthprofilemodificationduringmassspectrometricanalysisofmultilayernanostructures AT popovvg mechanismsofdopantdepthprofilemodificationduringmassspectrometricanalysisofmultilayernanostructures AT romanyukbm mechanismsofdopantdepthprofilemodificationduringmassspectrometricanalysisofmultilayernanostructures AT efremovaa mehanizmimodifikaciíprofilivrozpodiludomišokprimasspektrometričnomuanalizibagatošarovihnanostruktur AT litovchenkovg mehanizmimodifikaciíprofilivrozpodiludomišokprimasspektrometričnomuanalizibagatošarovihnanostruktur AT melnikvp mehanizmimodifikaciíprofilivrozpodiludomišokprimasspektrometričnomuanalizibagatošarovihnanostruktur AT oberemokos mehanizmimodifikaciíprofilivrozpodiludomišokprimasspektrometričnomuanalizibagatošarovihnanostruktur AT popovvg mehanizmimodifikaciíprofilivrozpodiludomišokprimasspektrometričnomuanalizibagatošarovihnanostruktur AT romanyukbm mehanizmimodifikaciíprofilivrozpodiludomišokprimasspektrometričnomuanalizibagatošarovihnanostruktur |