Вплив відпалу на інтенсивність термолюмінесценції KY3F10 : Ho3+

The effect of thermal annealing on thermoluminescence (TL) glow curves of commercially obtained KY3F10:Ho3+ phosphor is investigated, and the result is compared with that of unannealed sample. The samples were annealed at different annealing temperatures: namely, 400, 500, and 600 ∘C. The activation...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Datum:2020
Hauptverfasser: Debelo, N. G., Hailemariam, S.
Format: Artikel
Sprache:English
Veröffentlicht: Publishing house "Academperiodika" 2020
Online Zugang:https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2019347
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Ukrainian Journal of Physics

Institution

Ukrainian Journal of Physics
id ujp2-article-2019347
record_format ojs
spelling ujp2-article-20193472022-01-17T12:53:14Z Effect of Thermal Annealing on Thermoluminescence Glow Curves of KY3F10:Ho3+ Вплив відпалу на інтенсивність термолюмінесценції KY3F10 : Ho3+ Debelo, N. G. Hailemariam, S. thermoluminescence thermal annealing variable heating rate method activation energy - The effect of thermal annealing on thermoluminescence (TL) glow curves of commercially obtained KY3F10:Ho3+ phosphor is investigated, and the result is compared with that of unannealed sample. The samples were annealed at different annealing temperatures: namely, 400, 500, and 600 ∘C. The activation energy (trap depth), which is one of the TL kinetic parameters, is calculated for the annealed and unannealed samples using the variable heating rate (VHR) method. The results show that the thermal annealing has a clear effect on the TL intensities of the glow curves. The maxima of the TL glow curves shift toward a higher temperature region, as the annealing temperature increases. Moreover, the higher the annealing temperature, the shallower the position of the trap beneath the edge of the conduction band. The X-ray diffraction (XRD) pattern of the sample shows a monoclinic structure with unit cell dimensions (in Angstr¨om) a = 10.41, b = 6.73, c = 12.46 match with JCPDS card No. 21-1458. Дослiджено вплив вiдпалу на кривi свiтiння пiд час термолюмiнесценцiї сполуки KY3F10:Ho3+ промислового виробництва, i проведено порiвняння з результатами для невiдпаленого зразка. Вiдпал проводився при температурах 400, 500 i 600 ∘C. Розраховано один з кiнетичних параметрiв термолюмiнесценцiї, енергiя активацiї (глибина пастки), для вiдпаленого i невiдпаленого зразкiв, з використанням методу змiнної швидкостi нагрiву. Результати показали, що вiдпал впливає на iнтенсивнiсть свiтiння при термолюмiнесценцiї. З ростом температури вiдпалу максимуми кривих термолюмiнесценцiї змiщуються в бiк бiльш високих тем-ператур. Чим вища температура вiдпалу, тим нижче поло-ження рiвня пастки вiдносно краю зони провiдностi. Рент-генографiя показує наявнiсть моноклiнної структури з па-раметрами елементарної комiрки (в ˚ A) a = 10,41, b = 6,73,c = 12,46, вiдповiдними JCPDS мапi No. 21-1458. Publishing house "Academperiodika" 2020-03-03 Article Article Original Research Article (peer-reviewed) Оригінальна дослідницька стаття (з незалежним рецензуванням) application/pdf https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2019347 10.15407/ujpe65.2.174 Ukrainian Journal of Physics; Vol. 65 No. 2 (2020); 174 Український фізичний журнал; Том 65 № 2 (2020); 174 2071-0194 2071-0186 10.15407/ujpe65.2 en https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2019347/1572 Copyright (c) 2020 Bogolyubov Institute for Theoretical Physics, National Academy of Sciences of Ukraine
institution Ukrainian Journal of Physics
baseUrl_str
datestamp_date 2022-01-17T12:53:14Z
collection OJS
language English
topic_facet thermoluminescence
thermal annealing
variable heating rate method
activation energy
-
format Article
author Debelo, N. G.
Hailemariam, S.
spellingShingle Debelo, N. G.
Hailemariam, S.
Вплив відпалу на інтенсивність термолюмінесценції KY3F10 : Ho3+
author_facet Debelo, N. G.
Hailemariam, S.
author_sort Debelo, N. G.
title Вплив відпалу на інтенсивність термолюмінесценції KY3F10 : Ho3+
title_short Вплив відпалу на інтенсивність термолюмінесценції KY3F10 : Ho3+
title_full Вплив відпалу на інтенсивність термолюмінесценції KY3F10 : Ho3+
title_fullStr Вплив відпалу на інтенсивність термолюмінесценції KY3F10 : Ho3+
title_full_unstemmed Вплив відпалу на інтенсивність термолюмінесценції KY3F10 : Ho3+
title_sort вплив відпалу на інтенсивність термолюмінесценції ky3f10 : ho3+
title_alt Effect of Thermal Annealing on Thermoluminescence Glow Curves of KY3F10:Ho3+
description The effect of thermal annealing on thermoluminescence (TL) glow curves of commercially obtained KY3F10:Ho3+ phosphor is investigated, and the result is compared with that of unannealed sample. The samples were annealed at different annealing temperatures: namely, 400, 500, and 600 ∘C. The activation energy (trap depth), which is one of the TL kinetic parameters, is calculated for the annealed and unannealed samples using the variable heating rate (VHR) method. The results show that the thermal annealing has a clear effect on the TL intensities of the glow curves. The maxima of the TL glow curves shift toward a higher temperature region, as the annealing temperature increases. Moreover, the higher the annealing temperature, the shallower the position of the trap beneath the edge of the conduction band. The X-ray diffraction (XRD) pattern of the sample shows a monoclinic structure with unit cell dimensions (in Angstr¨om) a = 10.41, b = 6.73, c = 12.46 match with JCPDS card No. 21-1458.
publisher Publishing house "Academperiodika"
publishDate 2020
url https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2019347
work_keys_str_mv AT debelong effectofthermalannealingonthermoluminescenceglowcurvesofky3f10ho3
AT hailemariams effectofthermalannealingonthermoluminescenceglowcurvesofky3f10ho3
AT debelong vplivvídpalunaíntensivnístʹtermolûmínescencííky3f10ho3
AT hailemariams vplivvídpalunaíntensivnístʹtermolûmínescencííky3f10ho3
first_indexed 2025-08-07T04:12:04Z
last_indexed 2025-08-07T04:12:04Z
_version_ 1839768456433500160