Утворення зарядженого шару в обмеженій неоднорідній замагніченій плазмі у ВЧ полі

A model of plasma dynamics in the box of an ICRF (ion cyclotron radio-frequency) antenna without Faraday shield used for the plasma heating in tokamaks is proposed. Formation of a macroscopic layer of oscillating charge that plays a role of a shield is predicted. Relation to phenomena observed in a...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2021
Автор: Zasenko, V.I.
Формат: Стаття
Мова:English
Опубліковано: Publishing house "Academperiodika" 2021
Теми:
-
Онлайн доступ:https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2021169
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Ukrainian Journal of Physics

Репозитарії

Ukrainian Journal of Physics
id ujp2-article-2021169
record_format ojs
spelling ujp2-article-20211692021-12-06T12:56:18Z Formation of a Charged Layer in a Bounded Non-Uniform Magnetized Plasma in RF Field Утворення зарядженого шару в обмеженій неоднорідній замагніченій плазмі у ВЧ полі Zasenko, V.I. - - A model of plasma dynamics in the box of an ICRF (ion cyclotron radio-frequency) antenna without Faraday shield used for the plasma heating in tokamaks is proposed. Formation of a macroscopic layer of oscillating charge that plays a role of a shield is predicted. Relation to phenomena observed in a scrape-off layer plasma is discussed. Запропоновано модель динаміки плазми у патрубку радіочастотної антени без фарадеєвого екрана, що застосовується для нагрівання плазми в токамаках. Передбачено утворення макроскопічного шару осцилюючого заряду, що виконує роль екрана. Обговорюється зв'язок з явищами, що спостерігались у периферійній плазмі токамаків. Publishing house "Academperiodika" 2021-12-05 Article Article Peer-reviewed Рецензована стаття application/pdf https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2021169 10.15407/ujpe57.10.1011 Ukrainian Journal of Physics; Vol. 57 No. 10 (2012); 1011 Український фізичний журнал; Том 57 № 10 (2012); 1011 2071-0194 2071-0186 10.15407/ujpe57.10 en https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2021169/1872
institution Ukrainian Journal of Physics
collection OJS
language English
topic -
-
spellingShingle -
-
Zasenko, V.I.
Утворення зарядженого шару в обмеженій неоднорідній замагніченій плазмі у ВЧ полі
topic_facet -
-
format Article
author Zasenko, V.I.
author_facet Zasenko, V.I.
author_sort Zasenko, V.I.
title Утворення зарядженого шару в обмеженій неоднорідній замагніченій плазмі у ВЧ полі
title_short Утворення зарядженого шару в обмеженій неоднорідній замагніченій плазмі у ВЧ полі
title_full Утворення зарядженого шару в обмеженій неоднорідній замагніченій плазмі у ВЧ полі
title_fullStr Утворення зарядженого шару в обмеженій неоднорідній замагніченій плазмі у ВЧ полі
title_full_unstemmed Утворення зарядженого шару в обмеженій неоднорідній замагніченій плазмі у ВЧ полі
title_sort утворення зарядженого шару в обмеженій неоднорідній замагніченій плазмі у вч полі
title_alt Formation of a Charged Layer in a Bounded Non-Uniform Magnetized Plasma in RF Field
description A model of plasma dynamics in the box of an ICRF (ion cyclotron radio-frequency) antenna without Faraday shield used for the plasma heating in tokamaks is proposed. Formation of a macroscopic layer of oscillating charge that plays a role of a shield is predicted. Relation to phenomena observed in a scrape-off layer plasma is discussed.
publisher Publishing house "Academperiodika"
publishDate 2021
url https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2021169
work_keys_str_mv AT zasenkovi formationofachargedlayerinaboundednonuniformmagnetizedplasmainrffield
AT zasenkovi utvorennâzarâdženogošaruvobmeženíjneodnorídníjzamagníčeníjplazmíuvčpolí
first_indexed 2023-03-24T08:59:24Z
last_indexed 2023-03-24T08:59:24Z
_version_ 1795757723783004160