2025-02-23T08:41:06-05:00 DEBUG: VuFindSearch\Backend\Solr\Connector: Query fl=%2A&wt=json&json.nl=arrarr&q=id%3A%22ujp2-article-2021437%22&qt=morelikethis&rows=5
2025-02-23T08:41:06-05:00 DEBUG: VuFindSearch\Backend\Solr\Connector: => GET http://localhost:8983/solr/biblio/select?fl=%2A&wt=json&json.nl=arrarr&q=id%3A%22ujp2-article-2021437%22&qt=morelikethis&rows=5
2025-02-23T08:41:07-05:00 DEBUG: VuFindSearch\Backend\Solr\Connector: <= 200 OK
2025-02-23T08:41:07-05:00 DEBUG: Deserialized SOLR response

Осадження металічних плівок на мікрочастинки у пастці ВЧ магнетронного розряду

The technique for a metal film deposition on spherical microparticles in an RF plasma trap is presented. Both the particle confinement and the electrode sputtering are performed by a single RF magnetron discharge. The samples of a coated spheres are obtained and examined. The technique allows confin...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Main Authors: Pal, A.F., Rudavets, A.G., Ryabinkin, A.N., Serov, A.O.
Format: Article
Language:English
Published: Publishing house "Academperiodika" 2022
Subjects:
-
Online Access:https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2021437
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
id ujp2-article-2021437
record_format ojs
spelling ujp2-article-20214372022-02-02T20:11:28Z Deposition of Metal Films on Microparticles Trapped in RF Magnetron Discharge Осадження металічних плівок на мікрочастинки у пастці ВЧ магнетронного розряду Pal, A.F. Rudavets, A.G. Ryabinkin, A.N. Serov, A.O. - - The technique for a metal film deposition on spherical microparticles in an RF plasma trap is presented. Both the particle confinement and the electrode sputtering are performed by a single RF magnetron discharge. The samples of a coated spheres are obtained and examined. The technique allows confining the particles near to the sputtered region close to the border zone of ballistic bombardment by sputtered atoms. Подано спосіб осадження плівок на сферичні мікрочастинки в плазмово-пиловій пастці. Магнетронний ВЧ розряд використовували як для утримання частинок, так і для розпилення електродів. Отримано і досліджено зразки сферичних частинок з металічним покриттям. Ця техніка дозволяє утримувати частинки поблизу межі області балістичного бомбардування розпорошеними атомами. Publishing house "Academperiodika" 2022-02-02 Article Article Peer-reviewed Рецензована стаття application/pdf https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2021437 10.15407/ujpe56.12.1315 Ukrainian Journal of Physics; Vol. 56 No. 12 (2011); 1315 Український фізичний журнал; Том 56 № 12 (2011); 1315 2071-0194 2071-0186 10.15407/ujpe56.12 en https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2021437/2166
institution Ukrainian Journal of Physics
collection OJS
language English
topic -
-
spellingShingle -
-
Pal, A.F.
Rudavets, A.G.
Ryabinkin, A.N.
Serov, A.O.
Осадження металічних плівок на мікрочастинки у пастці ВЧ магнетронного розряду
topic_facet -
-
format Article
author Pal, A.F.
Rudavets, A.G.
Ryabinkin, A.N.
Serov, A.O.
author_facet Pal, A.F.
Rudavets, A.G.
Ryabinkin, A.N.
Serov, A.O.
author_sort Pal, A.F.
title Осадження металічних плівок на мікрочастинки у пастці ВЧ магнетронного розряду
title_short Осадження металічних плівок на мікрочастинки у пастці ВЧ магнетронного розряду
title_full Осадження металічних плівок на мікрочастинки у пастці ВЧ магнетронного розряду
title_fullStr Осадження металічних плівок на мікрочастинки у пастці ВЧ магнетронного розряду
title_full_unstemmed Осадження металічних плівок на мікрочастинки у пастці ВЧ магнетронного розряду
title_sort осадження металічних плівок на мікрочастинки у пастці вч магнетронного розряду
title_alt Deposition of Metal Films on Microparticles Trapped in RF Magnetron Discharge
description The technique for a metal film deposition on spherical microparticles in an RF plasma trap is presented. Both the particle confinement and the electrode sputtering are performed by a single RF magnetron discharge. The samples of a coated spheres are obtained and examined. The technique allows confining the particles near to the sputtered region close to the border zone of ballistic bombardment by sputtered atoms.
publisher Publishing house "Academperiodika"
publishDate 2022
url https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2021437
work_keys_str_mv AT palaf depositionofmetalfilmsonmicroparticlestrappedinrfmagnetrondischarge
AT rudavetsag depositionofmetalfilmsonmicroparticlestrappedinrfmagnetrondischarge
AT ryabinkinan depositionofmetalfilmsonmicroparticlestrappedinrfmagnetrondischarge
AT serovao depositionofmetalfilmsonmicroparticlestrappedinrfmagnetrondischarge
AT palaf osadžennâmetalíčnihplívoknamíkročastinkiupastcívčmagnetronnogorozrâdu
AT rudavetsag osadžennâmetalíčnihplívoknamíkročastinkiupastcívčmagnetronnogorozrâdu
AT ryabinkinan osadžennâmetalíčnihplívoknamíkročastinkiupastcívčmagnetronnogorozrâdu
AT serovao osadžennâmetalíčnihplívoknamíkročastinkiupastcívčmagnetronnogorozrâdu
first_indexed 2023-03-24T09:00:06Z
last_indexed 2023-03-24T09:00:06Z
_version_ 1795757743019130880