Механізм відпалу VO дефектів в n-Si при високотемпературному імпульсному електронному опроміненні

Досліджено кінетику накопичення комплексу вакансія–кисень (VO) в n-Si, вирощеному методом Чохральського (Cz), при різних інтенсивностях імпульсного 1 МеВ електронного опромінення при температурах, вищих за температуру початку термічного відпалу VO (T ≥ 300 ºC). Показано, що опромінення електронами п...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Date:2022
Main Authors: Kraitchinskii, A.M., Kras’ko, M.M., Kolosiuk, A.G., Petrunya , R.V., Povarchuk, V.Yu., Voitovych, V.V., Neimash, V.B., Makara, V.A., Rudenko, R.M.
Format: Article
Language:Ukrainian
English
Published: Publishing house "Academperiodika" 2022
Subjects:
-
Online Access:https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2022028
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
Journal Title:Ukrainian Journal of Physics

Institution

Ukrainian Journal of Physics

Similar Items