Виготовлення та морфологія мідних наноплівок з використанням приладів на постійному струмі та радіочастотах для магнетронного розпилення

• Datum: 2026
• Hauptverfasser: Dovranov, K.T., Abrayeva, S.T., Yorqulov, R.M., Mustafoeva, N.M., Buzrukov, T.O., Jurayeva, Sh.A., Aminov, A.A.
• Format: Artikel
• Sprache: Englisch
• Veröffentlicht: Publishing house "Academperiodika" 2026
• Schlagworte: магнетронне напилення; постiйний струм; радiочастота; мiднi наноплiвки
• Online Zugang: https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2023585
• Назва журналу: Ukrainian Journal of Physics

In this paper, we provide detailed information on the mechanism of formation of thin copper films in different modes of magnetron sputtering on the surface of single-crystal silicon by the solid-phase ion-plasma method. The dependence of the sputtering rate of Cu/Si films obtained by the direct curr...