Структури і профілі тонких KY3F10:Ho3+ плівок, нанесених імпульсним лазерним впливом: Pulsed laser deposition of thin films

Структури і профілі тонких KY3F10:Ho3+ плівок, нанесених імпульсним лазерним впливом: Pulsed laser deposition of thin films

Thin films of  phosphor have been successfully prepared by pulsed laser deposition using Nd-YAG laser (266 nm, pulse duration of 10 ns, repetition rate of 2Hz) on a  (100) silicon substrate in vacuum environment and for different target to substrate distances. The X-ray diffraction...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2018
Автори: Gemechu, N., Abebe, T.
Формат: Стаття
Мова:English
Опубліковано: Publishing house "Academperiodika" 2018
Онлайн доступ:https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/71
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Ukrainian Journal of Physics

Репозитарії

Ukrainian Journal of Physics
id ujp2-article-71
record_format ojs
spelling ujp2-article-712020-10-19T00:44:21Z Structural Characterization and Thickness Profile of Pulsed Laser-Deposited KY3F10: Ho3+ Thin Films: Pulsed laser deposition of thin films Структури і профілі тонких KY3F10:Ho3+ плівок, нанесених імпульсним лазерним впливом: Pulsed laser deposition of thin films Gemechu, N. Abebe, T. Thickness profile gas dynamic equations plasma plume Thin films of  phosphor have been successfully prepared by pulsed laser deposition using Nd-YAG laser (266 nm, pulse duration of 10 ns, repetition rate of 2Hz) on a  (100) silicon substrate in vacuum environment and for different target to substrate distances. The X-ray diffraction (XRD) results show that the films crystallized in tetragonal polycrystalline phase of  (in agreement with JCPDS card No 27-0465). Theoretical predictions of the thickness profile have been presented using some experimental parameters used during deposition. Assuming ellipsoidal expansion of the plasma plume, the thickness profile of the films has been estimated from the solution of the gas dynamical equations for adiabatic expansion of the plasma plume in to vacuum. The results show strong forward direction of the plume and are in a good agreement with experimental results. Both theoretical and experimental results show the decrease in film thickness for relatively larger values of target to substrate distance and this could be attributed to the decrease in deposition rate at such larger distances. Moreover, for a single film, the thickness also decreases for relatively larger radial angles with respect to the normal to substrate. Тонкi KY3F10 :Ho3+ плiвки виготовленi методом iмпульсного лазерного напилення iз застосуванням Nd-YAG лазера (266 нм, тривалiсть iмпульсу 10 нс, частота повторення 2 Гц) на 1 см × 1 см пiдкладку з кремнiю в вакуумi для рiзних вiдстаней мiж мiшенню i пiдкладкою. Рентгенiвськi дослiдження показали, що плiвки кристалiзуються в тетрагональну полiкристалiчну фазу KY3F10 (вiдповiдно до кар-ти № 27-0465 Комiтету з дифракцiйних стандартiв). Наведено результати розрахункiв профiлiв з урахуванням деяких експериментальних параметрiв напилення. У припущеннi елiпсоїдального поширення струменя плазми, профiль товщини плiвки оцiнений рiшенням газодинамiчних рiвнянь у разi адiабатичного поширення струменя плазми у вакуумi. Результати дають переважний напрямок пучка вперед, що добре узгоджуються з експериментом. Теорiя i експеримент показують зменшення товщини плiвки при збiльшеннi вiдстанi мiж мiшенню i пiдкладкою, що вiдповiдає зменшенню швидкостi напилення. Товщина плiвки також зменшується для вiдносно великих радiальних кутiв щодо нормалi до пiдкладки. Publishing house "Academperiodika" 2018-03-02 Article Article Original Research Article (peer-reviewed) Оригінальна дослідницька стаття (з незалежним рецензуванням) application/pdf https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/71 10.15407/ujpe63.2.182 Ukrainian Journal of Physics; Vol. 63 No. 2 (2018); 182 Український фізичний журнал; Том 63 № 2 (2018); 182 2071-0194 2071-0186 10.15407/ujpe63.2 en https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/71/52
institution Ukrainian Journal of Physics
baseUrl_str
datestamp_date 2020-10-19T00:44:21Z
collection OJS
language English
topic_facet Thickness profile
gas dynamic equations
plasma plume
format Article
author Gemechu, N.
Abebe, T.
spellingShingle Gemechu, N.
Abebe, T.
Структури і профілі тонких KY3F10:Ho3+ плівок, нанесених імпульсним лазерним впливом: Pulsed laser deposition of thin films
author_facet Gemechu, N.
Abebe, T.
author_sort Gemechu, N.
title Структури і профілі тонких KY3F10:Ho3+ плівок, нанесених імпульсним лазерним впливом: Pulsed laser deposition of thin films
title_short Структури і профілі тонких KY3F10:Ho3+ плівок, нанесених імпульсним лазерним впливом: Pulsed laser deposition of thin films
title_full Структури і профілі тонких KY3F10:Ho3+ плівок, нанесених імпульсним лазерним впливом: Pulsed laser deposition of thin films
title_fullStr Структури і профілі тонких KY3F10:Ho3+ плівок, нанесених імпульсним лазерним впливом: Pulsed laser deposition of thin films
title_full_unstemmed Структури і профілі тонких KY3F10:Ho3+ плівок, нанесених імпульсним лазерним впливом: Pulsed laser deposition of thin films
title_sort структури і профілі тонких ky3f10:ho3+ плівок, нанесених імпульсним лазерним впливом: pulsed laser deposition of thin films
title_alt Structural Characterization and Thickness Profile of Pulsed Laser-Deposited KY3F10: Ho3+ Thin Films: Pulsed laser deposition of thin films
description Thin films of  phosphor have been successfully prepared by pulsed laser deposition using Nd-YAG laser (266 nm, pulse duration of 10 ns, repetition rate of 2Hz) on a  (100) silicon substrate in vacuum environment and for different target to substrate distances. The X-ray diffraction (XRD) results show that the films crystallized in tetragonal polycrystalline phase of  (in agreement with JCPDS card No 27-0465). Theoretical predictions of the thickness profile have been presented using some experimental parameters used during deposition. Assuming ellipsoidal expansion of the plasma plume, the thickness profile of the films has been estimated from the solution of the gas dynamical equations for adiabatic expansion of the plasma plume in to vacuum. The results show strong forward direction of the plume and are in a good agreement with experimental results. Both theoretical and experimental results show the decrease in film thickness for relatively larger values of target to substrate distance and this could be attributed to the decrease in deposition rate at such larger distances. Moreover, for a single film, the thickness also decreases for relatively larger radial angles with respect to the normal to substrate.
publisher Publishing house "Academperiodika"
publishDate 2018
url https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/71
work_keys_str_mv AT gemechun structuralcharacterizationandthicknessprofileofpulsedlaserdepositedky3f10ho3thinfilmspulsedlaserdepositionofthinfilms
AT abebet structuralcharacterizationandthicknessprofileofpulsedlaserdepositedky3f10ho3thinfilmspulsedlaserdepositionofthinfilms
AT gemechun strukturiíprofílítonkihky3f10ho3plívoknanesenihímpulʹsnimlazernimvplivompulsedlaserdepositionofthinfilms
AT abebet strukturiíprofílítonkihky3f10ho3plívoknanesenihímpulʹsnimlazernimvplivompulsedlaserdepositionofthinfilms
first_indexed 2025-10-02T01:14:01Z
last_indexed 2025-10-02T01:14:01Z
_version_ 1851765042124423168

Схожі ресурси