Accumulation and confinement of electrons in a penning trap with a central electrode за авторством Man’kovsky, S.N., Sytnykov, D.A., Tarasov, I.K., Tkachenko, I.V., Tkachenko, V.I.

Отримати повний текст

Relationship between photocatalytic activity, hydrophilicity and photoelectric properties of TiO₂ thin films за авторством Kolouch, A., Horáková, M., Hájková, P., Heyduková, E., Exnar, P., Spatenka, P.

Отримати повний текст

Optical properties and some applications of plasma–liquid system with discharge in the gas canal with liquid wall за авторством Veremii, Iu.P., Chernyak, V.Ya., Naumov, V.V., Yukhymenko, V.V., Dudnyk, N.V.

Отримати повний текст

Shock alloying of metals by cumulative plasma streams за авторством Ivanov, L.I., Dedyurin, A.I., Borovitskaya, I.V., Krokhin, O.N., Nikulin, V.Ya., Peregudova, E.N., Polukhin, S.N., Tikhomirov, A.A., Avraamov, Yu.S., Shlyapin, A.D.

Отримати повний текст

Performance of thermal barrier coatings produced by smart plasma processing за авторством Kobayashi, Akira

Отримати повний текст

Cross-field mobility in a pure electron plasma за авторством Emily C. Fossum, Lyon B. King

Отримати повний текст

Parametric instability influence on isotope separation by ion-cyclotron resonance method за авторством Olshansky, V.V., Stepanov, K.N.

Отримати повний текст

On the influence of metal impurities on the thermal contraction of a nitrogen arc за авторством Porytskyy, P. V., Veklich, A.M.

Отримати повний текст

2D fluid model for interactive development of ICP technological tools за авторством Gapon, A.V., Dahov, A.N., Dudin, S.V., Zykov, A.V., Azarenkov, N.A.

Отримати повний текст

Investigation of thin films deposition into porous material за авторством Sedláková, L., Kolouch, A., Hladík, J., Spatenka, P.

Отримати повний текст

Ion energy and ion angular distributions in RF capacitively coupled plasma sources: pure argon and argon-oxygen mixtures за авторством Manuilenko, O.V., Minaeva, K.M., Golota, V.I.

Отримати повний текст

Growth of raileigh-taylor type instability on the surface of discharge channel in liquid за авторством Kononov, A.V., Porytskyy, P.V., Starchyk, P.D., Voitenko, L.M.

Отримати повний текст

Improvement of penning ion sources за авторством Bizyukov, A.A., Bobkov, Vl.V., Kashaba, A.Y., Sereda, K.N.

Отримати повний текст

Vacuum-arc equipment for ion-plasma deposition of coatings за авторством Aksenov, I.I., Belous, V.A.

Отримати повний текст

Industrial applications of TiO₂ films deposited by electron-beam-excited plasma of meter-size за авторством Famakinwa, T., Ikezawa, S., Homyara, H., Yoshioka, T., Nakamura, K., Ninomiya, Y., Oda, H., Hara, T., Hori, M., Fujii, S., Yoshimura, K., Taoda, H.

Отримати повний текст

Ion initial azimuthal speed influence upon isotopes separation in the presence of constant axisymmetric radial-electric and azimuthal-magnetic fields, the strengths of which is inv... за авторством Kirochkin, A.Yu., Kirochkin, Yu.A., Lapshin, V.I., Marinin, V.G., Vlasov, V.V., Volkov, E.D.

Отримати повний текст

Plasma chemistry of SOx in a pulsed electric discharge at atmosphere pressure за авторством Berezina, G.P., Onishchenko, I.N., Us, V.S.

Отримати повний текст

Plasma and ion beam surface modification at Lawrence Berkeley National Laboratory за авторством Brown, I.

Отримати повний текст

The pinch effect in microwave resonant streamer discharge за авторством Esakov, I.I., Grachev, L.P., Khodataev, K. V.

Отримати повний текст

Thin niobium superconducting film prepared by modified cylindrical magnetron за авторством Langner, J., Cirillo, M., DeMasi, W., Merlo, V., Russo, R., Tazzari, S., Catani, L., Sorchetti, R.

Отримати повний текст