Investigation of characteristics of non-simultaneous arc discharge in titanium vapors in glow discharge electron evaporators за авторством Denbnovetskiy, S.V., Melnyk, V.I., Melnyk, I.V., Tugay, B.A., Porytskyy, P.V.

Отримати повний текст

Computer modeling of charge particle beam extraction and transport за авторством Litovko, I.V., Oks, E.M.

Отримати повний текст

Plasma generation in the low- pressure gas D.C. discharge with a simple example of the noble gas system за авторством Kurbatov, P.F.

Отримати повний текст

A computer simulation of the effect of dusty particles on the characteristic of RF discharges за авторством Kravchenko, O.Yu., Vakulenko, A.V., Lisitchenko, T.E., Levada, G.I., Yastrub, Yu.A.

Отримати повний текст

Cylindrical magnetron based on the plasmaoptical principles за авторством Dobrovol's'kii, A.M., Evsyukov, A.N., Goncharov, A.A., Protsenko, I.M.

Отримати повний текст

Pulse discharge in the dielectric cell: simulation via PIC method за авторством Kelnyk, O.I., Samchuk, O.V., Anisimov, I.O.

Отримати повний текст

Combustion of ethanol+air mixture supported by transverse arc plasma за авторством Yukhymenko, V.V., Chernyak, V.Ya., Naumov, V.V., Veremii, Iu.P., Zrazhevskij, V.A.

Отримати повний текст

Characterization of plasma and emergent ion beam in a compact helicon source with permanent magnets за авторством Virko, Yu.V., Virko, V.F., Shamrai, K.P., Yakimenko, A.I.

Отримати повний текст

Current compensation of hydrogen ion beam extracted from PIG with metal-hydride cathode за авторством Borisko, V.N., Sereda, I.N., Klochko, Ye.V., Tseluyko, A.F., Afanas’eva, I.A.

Отримати повний текст

Plasma sterilizer with ultrasonic cavitation за авторством Krasnyj, V.V., Klosovskij, A.V., Panasko, T.A., Shvets, O.M., Semenova, O.T., Taran, V.S., Tereshin, V.I.

Отримати повний текст

Ultra high vacuum cathodic arc for deposition of superconducting lead photo-cathodes за авторством Strzyzewski, P., Langner, J., Sadowski, M.J., Witkowski, J., Sekutowicz, J.

Отримати повний текст

Ion crystal formation in nonequilibrium dusty plasmas near electrode or electric probe за авторством Azarenkov, N.A., Egorov, A.M., Maslov, V.I., Onishchenko, I.N., Frolova, D.Yu.

Отримати повний текст

Solid ion source based on hollow-cylindrical magnetron sputtering discharge за авторством Azarenkov, N.A., Bizyukov, A.A., Bizyukov, I.A., Bobkov, V.V., Kashaba, A.E., Krieger, K., Sereda, K.N., Tarasov, I.K.

Отримати повний текст

Deposition of refractory metal films with planar plasma ECR source за авторством Fedorchenko, V.D., Chebotarev, V.V., Medvedev, A.V., Tereshin, V.I.

Отримати повний текст

Modernized equipment for plasmachemical etching of insulation of p-n transition of photoelectric converters за авторством Fedorovich, O.A., Kruglenko, M.P., Lukomskij, D.V., Marinenko, A.A., Polozov, B.P.

Отримати повний текст

Break-down of the magnetically insulated diode за авторством Zagrebelnyy, I.A., Zykov, A.V., Glaznev, M.V.

Отримати повний текст

The influence of surface parameters of coatings deposited by various vacuum-plasma methods on the cell/material interaction in vitro tests за авторством Zykova, A., Safonov, V., Luk’yanchenko, V., Walkowicz, J., Rogowska, R.

Отримати повний текст

Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings за авторством Walkowicz, J., Zykov, A.V., Dudin, S.V., Yakovin, S.D.

Отримати повний текст

The study of the oxide coating effect on bone–implant interface formation by means of electron microscopy method with energy dispersive x-ray analysis за авторством Gudakova, A.A., Danilchenko, S.N., Sukhodub, L.F., Luk'yanchenko, V.V., Zykova, A.V., Safonov, V.I.

Отримати повний текст

Production of metal and dielectric films in a combined RF and arc discharge за авторством Gasilin, V.V., Kunchenko, V.V., Nezovybat’ko, Yu.N., Taran, A.V., Taran, V.S., Tereshin, V.I., Shvets, O.M.

Отримати повний текст