ARC discharge in a cross flow of gas за авторством Chernyak, V.Ya., Naumov, V.V., Yukhymenko, V.V., Babich, I.L., Zrazhevskyy, V.A., Woewoda, Yu.V., Pashko, T.V.

Отримати повний текст

Features of high-current pulsed regimes in regimes in magnetron sputtering systems за авторством Bizyukov, A.A., Kashaba, A.Ye., Romashchenko, E.V., Sereda, K.N., Tarasov, I.K., Abolmasov, S.N.

Отримати повний текст

Surface modification of Nd-Fe-B based materials with pulsed helium plasma streams за авторством Bovda, A., Bovda, V., Byrka, O., Chebotarev, V., Garkusha, I., Matyushenko, N., Tereshin, V., Tortika, A., Brown, I.

Отримати повний текст

Influence of the magnetic field on particle dynamics in capillary discharge of the soft X-ray laser за авторством Maslov, V.I., Tretyakov, V.N., Azarenkov, N.A., Borisko, V.N., Yegorov, A.M., Onishchenko, I.N.

Отримати повний текст

Microwave discharge as a source of light за авторством Brodsky, Yu.Ya., Kovalev, N.F., Perminov, A.O., Shlepnev, S.P.

Отримати повний текст

Sterilization by plasma produced at REB outlet into atmosphere за авторством Babich, E.M., Kiselev, V.A., Linnik, A.F., Maslov, V.I., Onishchenko, N.I., Sklyar, N.I., Uskov, V.V.

Отримати повний текст

Stady of the characteristics of barrier flat ozonizer with the use of pulse supply за авторством Krasnyj, V.V., Klosovskij, A.V., Knysh, A.S., Taran, V.S., Shvets, O.M.

Отримати повний текст

The biomedical application and corrosion properties of implanted materials with protective coatings за авторством Zykova, A.V., Luk’yanchenko, V.V., Safonov, V.I.

Отримати повний текст

Influence of gas mixture with various mass numbers of gases on operation pressure range of plasma electron source with hollow cathode за авторством Borisko, V.N., Petrushenya, A.A.

Отримати повний текст

Application of arc plasma for a deposition of superconducting films за авторством Langner, J., Russo, R., Catani, L., Tazzari, S., Cirillo, M., Czaus, K., Merlo, V., Tazzioli, F., Proch, D., Koval, N.N., Lopatin, I.V.

Отримати повний текст

Critical energy in the cyclotron heating of ions in an ECR plasma source за авторством Gutiérrez-Tapia, C., Hernández-Aguirre, O.

Отримати повний текст

Dusty discharges with secondary electron emission за авторством Chutov, Yu. I., Goedheer, W.J., Kravchenko, O.Yu., Lavrov, O.A., Romanenko, R.

Отримати повний текст

Ion kinetics in an ECR plasma source за авторством Gutiérrez-Tapia, C.

Отримати повний текст

Application of pulsed plasma streams for materials alloying and coatings modification за авторством Byrka, O.V., Bandura, A.N., Chebotarev, V.V., Garkusha, I.E., Langner, J., Sadowski, M.J., Tereshin, V.I.

Отримати повний текст

Experimental research of ICP reactor for plasma-chemical etching за авторством Dudin, S.V., Zykov, A.V., Dahov, A.N., Farenik, V.I.

Отримати повний текст

Application of atmospheric dielectric barrier discharge plasma for polyethylene powder modification за авторством Píchal, J., Hladík, J., Špatenka, P., Aubrecht, L.

Отримати повний текст

Coating in the arc discharges with plasma flow filtration за авторством Gasilin, V. V., Zavaleyev, V.A., Nezovibat’ko, Yu. N., Shvets, O.M., Taran, V.S., Skorina, E.V.

Отримати повний текст

Atmospheric DBD discharge modification of polyester fabric за авторством Klenko, Y., Pichal, J., Aubrecht, L.

Отримати повний текст

Accumulation and confinement of electrons in a penning trap with a central electrode за авторством Man’kovsky, S.N., Sytnykov, D.A., Tarasov, I.K., Tkachenko, I.V., Tkachenko, V.I.

Отримати повний текст

Relationship between photocatalytic activity, hydrophilicity and photoelectric properties of TiO₂ thin films за авторством Kolouch, A., Horáková, M., Hájková, P., Heyduková, E., Exnar, P., Spatenka, P.

Отримати повний текст