Plasma potential influence on ion energy Distribution function in ICP source за авторством Vozniy, O.V., Yeom, G.Y., Kropotov, A.Yu.

Отримати повний текст

Magnetron sputtering of high temperature composite ceramics AlN-TiB₂-TiSi₂ за авторством Torianik, I.N., Beresnev, V.M., Pogrebnjak, A.D., Sobol, O.V., Beresneva, Ye.V., Podcherniaieva, I.A., Kropotov, A.Yu., Stiervoiedov, N.G., Turbin, P.V., Kolesnikov, D.A., Grankin, S.S., Nyemchenko, U.S., Srebniuk, P.A., Novikov, V.Yu.

Отримати повний текст