Plasma potential influence on ion energy Distribution function in ICP source
In this work, the deviation of energy distribution function of energetic ions from the predetermined value in an inductively coupled plasma (ICP) ion gun source is discussed. An abnormal plasma potential increase at an extraction voltage 400 V caused a beam energy shift of up to 50 eV compared to...
Gespeichert in:
| Veröffentlicht in: | Физическая инженерия поверхности |
|---|---|
| Datum: | 2007 |
| Hauptverfasser: | , , |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | English |
| Veröffentlicht: |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
2007
|
| Online Zugang: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/98816 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Zitieren: | Plasma potential influence on ion energy Distribution function in ICP source / O.V. Vozniy, G.Y. Yeom, A.Yu. Kropotov // Физическая инженерия поверхности. — 2007. — Т. 5, № 1-2. — С. 28–33. — Бібліогр.: 21 назв. — англ. |