Харвестер відкритої науки НАН України

Formation of Nanostructured Relief of TiN—Fe Heterostructures in Hybrid Helicon-Arc Plasma Reactor

за авторством Rudenko, E.M., Korotash, I.V., Polotskiy, D.Y., Osipov, L.S., Dyakin, M.V., Prikhna, T.A., Shapovalov, A.P.
Опубліковано в: Металлофизика и новейшие технологии (2015)

Сontrolling parameters determining technological properties of a helicon discharge system

за авторством Semenyuk, V.F., Virko, V.F., Korotash, I.V., Osipov, L.S., Polotsky, D.Yu., Rudenko, E.M., Slobodyan, V.M., Shamrai, K.P.
Опубліковано в: Вопросы атомной науки и техники (2013)

Structure and optical properties of AlN films obtained using the cathodic arc plasma deposition technique

за авторством Shapovalov, A.P., Korotash, I.V., Rudenko, E.M., Sizov, F.F., Dubyna, D.S., Osipov, L.S., Polotskiy, D.Yu., Tsybrii, Z.F., Korchovyi, A.A.
Опубліковано в: Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics (2015)

Structure and optical properties of AlN films obtained using the cathodic arc plasma deposition technique

за авторством Shapovalov, A.P., Korotash, I.V., Rudenko, E.M., Sizov, F.F., Dubyna, D.S., Osipov, L.S., Polotskiy, D.Yu., Tsybri, Z.F., Korchovyi, A.A.
Опубліковано в: Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics (2015)