Behavior of hydrogen during crystallization of thin silicon films doped with tin за авторством R. M. Rudenko, M. M. Krasko, V. V. Voitovych, A. G. Kolosyuk, Yu. Povarchuk, A. M. Kraichynskyi, V. O. Yukhymchuck, Ya. Bratus, M. V. Voitovych, I. A. Zaloilo

Отримати повний текст