Behavior of hydrogen during crystallization of thin silicon films doped with tin

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2013
Автори: R. M. Rudenko, M. M. Krasko, V. V. Voitovych, A. G. Kolosyuk, Yu. Povarchuk, A. M. Kraichynskyi, V. O. Yukhymchuck, Ya. Bratus, M. V. Voitovych, I. A. Zaloilo
Формат: Стаття
Мова:English
Опубліковано: 2013
Назва видання:Ukrainian journal of physics
Онлайн доступ:http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000691663
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS

Репозиторії

Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS