Preparation methods for nano-sized structures using films of chalcogenide glassy semiconductors
The analysis of methods of micro- and nanorelief structures recording at chalcogenide vitreous semiconductors films is presented. It is shown that exposing of the chalcogenide vitreous semiconductors films by optical radiation focused by diffraction limited optical systems allows to obtain prints wi...
Збережено в:
Дата: | 2016 |
---|---|
Автори: | , , , , , , , |
Формат: | Стаття |
Мова: | Ukrainian |
Опубліковано: |
Інститут проблем реєстрації інформації НАН України
2016
|
Теми: | |
Онлайн доступ: | http://drsp.ipri.kiev.ua/article/view/100341 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Data Recording, Storage & Processing |
Репозитарії
Data Recording, Storage & Processingid |
drspiprikievua-article-100341 |
---|---|
record_format |
ojs |
spelling |
drspiprikievua-article-1003412020-12-29T20:55:47Z Preparation methods for nano-sized structures using films of chalcogenide glassy semiconductors Методы формирования наноразмерных структур на пленках халькогенидных стеклообразных полупроводников Методи формування нанорозмірних структур на плівках халькогенідних склоподібних напівпровідників Petrov, V. V. Lytvyn, P. M. Trunov, M. L. Kryuchyn, A. A. Belyak, E. V. Rubish, V. M. Kostyukevych, S. O. Koptiukh, A. A. nanorelief structures chalcogenide vitreous semiconductors near-field probes AFM lithography нанорельефные структуры халькогенидные стеклообразные полупроводники ближнеполевые зонды атомно-силовая литография нанорельєфні структури халькогенідні склоподібні напівпровідники ближньопольові зонди атомно-силова літографія The analysis of methods of micro- and nanorelief structures recording at chalcogenide vitreous semiconductors films is presented. It is shown that exposing of the chalcogenide vitreous semiconductors films by optical radiation focused by diffraction limited optical systems allows to obtain prints with much smaller size than the diffraction boundary by using of the photosensitive materials exposure characte-ristics nonlinearity. The data of the recording nanosize structures by near field and electron beam systems are revealed. Fig.: 6. Refs: 28 titles. Представлен анализ методов записи микро- и нанорельефных структур на пленках халькогенидных стеклообразных полупроводников. Показано, что при экспонировании пленок халькогенидных стеклообразных полупроводников оптическим излучением, сфокусированным дифракционно ограниченными оптическими системами, отпечатки, размеры которых значительно меньше дифракционной границы, могут быть получены при использовании нелинейности экспозиционной характеристики фоточувствительных материалов. Приведены данные о записи наноразмерных структур ближнеполевыми и электронно-лучевыми фокусирующими системами. Ил.: 6. Библиогр.: 28 наим. Представлено аналіз методів запису мікро- та нанорельєфних структур на плівках халькогенідних склоподібних напівпровідників. Показано, що при експонуванні плівок халькогенідних склоподібних напівпровідників оптичним випромінюванням, яке сфокусовано дифракційно обмеженими оптичними системами, відбитки, розміри яких значно менші дифракційної межі, можуть бути отримані при використанні нелінійності експозиційної характеристики фоточутливих матеріалів. Наведено дані про запис нанорозмірних структур ближньопольовими та електронно-променевими фокусувальними системами. Інститут проблем реєстрації інформації НАН України 2016-02-02 Article Article application/pdf http://drsp.ipri.kiev.ua/article/view/100341 10.35681/1560-9189.2016.18.1.100341 Data Recording, Storage & Processing; Vol. 18 No. 1 (2016); 3-13 Регистрация, хранение и обработка данных; Том 18 № 1 (2016); 3-13 Реєстрація, зберігання і обробка даних; Том 18 № 1 (2016); 3-13 1560-9189 uk http://drsp.ipri.kiev.ua/article/view/100341/95487 Авторське право (c) 2021 Реєстрація, зберігання і обробка даних |
institution |
Data Recording, Storage & Processing |
collection |
OJS |
language |
Ukrainian |
topic |
nanorelief structures chalcogenide vitreous semiconductors near-field probes AFM lithography нанорельефные структуры халькогенидные стеклообразные полупроводники ближнеполевые зонды атомно-силовая литография нанорельєфні структури халькогенідні склоподібні напівпровідники ближньопольові зонди атомно-силова літографія |
spellingShingle |
nanorelief structures chalcogenide vitreous semiconductors near-field probes AFM lithography нанорельефные структуры халькогенидные стеклообразные полупроводники ближнеполевые зонды атомно-силовая литография нанорельєфні структури халькогенідні склоподібні напівпровідники ближньопольові зонди атомно-силова літографія Petrov, V. V. Lytvyn, P. M. Trunov, M. L. Kryuchyn, A. A. Belyak, E. V. Rubish, V. M. Kostyukevych, S. O. Koptiukh, A. A. Preparation methods for nano-sized structures using films of chalcogenide glassy semiconductors |
topic_facet |
nanorelief structures chalcogenide vitreous semiconductors near-field probes AFM lithography нанорельефные структуры халькогенидные стеклообразные полупроводники ближнеполевые зонды атомно-силовая литография нанорельєфні структури халькогенідні склоподібні напівпровідники ближньопольові зонди атомно-силова літографія |
format |
Article |
author |
Petrov, V. V. Lytvyn, P. M. Trunov, M. L. Kryuchyn, A. A. Belyak, E. V. Rubish, V. M. Kostyukevych, S. O. Koptiukh, A. A. |
author_facet |
Petrov, V. V. Lytvyn, P. M. Trunov, M. L. Kryuchyn, A. A. Belyak, E. V. Rubish, V. M. Kostyukevych, S. O. Koptiukh, A. A. |
author_sort |
Petrov, V. V. |
title |
Preparation methods for nano-sized structures using films of chalcogenide glassy semiconductors |
title_short |
Preparation methods for nano-sized structures using films of chalcogenide glassy semiconductors |
title_full |
Preparation methods for nano-sized structures using films of chalcogenide glassy semiconductors |
title_fullStr |
Preparation methods for nano-sized structures using films of chalcogenide glassy semiconductors |
title_full_unstemmed |
Preparation methods for nano-sized structures using films of chalcogenide glassy semiconductors |
title_sort |
preparation methods for nano-sized structures using films of chalcogenide glassy semiconductors |
title_alt |
Методы формирования наноразмерных структур на пленках халькогенидных стеклообразных полупроводников Методи формування нанорозмірних структур на плівках халькогенідних склоподібних напівпровідників |
description |
The analysis of methods of micro- and nanorelief structures recording at chalcogenide vitreous semiconductors films is presented. It is shown that exposing of the chalcogenide vitreous semiconductors films by optical radiation focused by diffraction limited optical systems allows to obtain prints with much smaller size than the diffraction boundary by using of the photosensitive materials exposure characte-ristics nonlinearity. The data of the recording nanosize structures by near field and electron beam systems are revealed. Fig.: 6. Refs: 28 titles. |
publisher |
Інститут проблем реєстрації інформації НАН України |
publishDate |
2016 |
url |
http://drsp.ipri.kiev.ua/article/view/100341 |
work_keys_str_mv |
AT petrovvv preparationmethodsfornanosizedstructuresusingfilmsofchalcogenideglassysemiconductors AT lytvynpm preparationmethodsfornanosizedstructuresusingfilmsofchalcogenideglassysemiconductors AT trunovml preparationmethodsfornanosizedstructuresusingfilmsofchalcogenideglassysemiconductors AT kryuchynaa preparationmethodsfornanosizedstructuresusingfilmsofchalcogenideglassysemiconductors AT belyakev preparationmethodsfornanosizedstructuresusingfilmsofchalcogenideglassysemiconductors AT rubishvm preparationmethodsfornanosizedstructuresusingfilmsofchalcogenideglassysemiconductors AT kostyukevychso preparationmethodsfornanosizedstructuresusingfilmsofchalcogenideglassysemiconductors AT koptiukhaa preparationmethodsfornanosizedstructuresusingfilmsofchalcogenideglassysemiconductors AT petrovvv metodyformirovaniânanorazmernyhstrukturnaplenkahhalʹkogenidnyhstekloobraznyhpoluprovodnikov AT lytvynpm metodyformirovaniânanorazmernyhstrukturnaplenkahhalʹkogenidnyhstekloobraznyhpoluprovodnikov AT trunovml metodyformirovaniânanorazmernyhstrukturnaplenkahhalʹkogenidnyhstekloobraznyhpoluprovodnikov AT kryuchynaa metodyformirovaniânanorazmernyhstrukturnaplenkahhalʹkogenidnyhstekloobraznyhpoluprovodnikov AT belyakev metodyformirovaniânanorazmernyhstrukturnaplenkahhalʹkogenidnyhstekloobraznyhpoluprovodnikov AT rubishvm metodyformirovaniânanorazmernyhstrukturnaplenkahhalʹkogenidnyhstekloobraznyhpoluprovodnikov AT kostyukevychso metodyformirovaniânanorazmernyhstrukturnaplenkahhalʹkogenidnyhstekloobraznyhpoluprovodnikov AT koptiukhaa metodyformirovaniânanorazmernyhstrukturnaplenkahhalʹkogenidnyhstekloobraznyhpoluprovodnikov AT petrovvv metodiformuvannânanorozmírnihstrukturnaplívkahhalʹkogenídnihsklopodíbnihnapívprovídnikív AT lytvynpm metodiformuvannânanorozmírnihstrukturnaplívkahhalʹkogenídnihsklopodíbnihnapívprovídnikív AT trunovml metodiformuvannânanorozmírnihstrukturnaplívkahhalʹkogenídnihsklopodíbnihnapívprovídnikív AT kryuchynaa metodiformuvannânanorozmírnihstrukturnaplívkahhalʹkogenídnihsklopodíbnihnapívprovídnikív AT belyakev metodiformuvannânanorozmírnihstrukturnaplívkahhalʹkogenídnihsklopodíbnihnapívprovídnikív AT rubishvm metodiformuvannânanorozmírnihstrukturnaplívkahhalʹkogenídnihsklopodíbnihnapívprovídnikív AT kostyukevychso metodiformuvannânanorozmírnihstrukturnaplívkahhalʹkogenídnihsklopodíbnihnapívprovídnikív AT koptiukhaa metodiformuvannânanorozmírnihstrukturnaplívkahhalʹkogenídnihsklopodíbnihnapívprovídnikív |
first_indexed |
2024-04-21T19:33:15Z |
last_indexed |
2024-04-21T19:33:15Z |
_version_ |
1796974046354604032 |