Preparation methods for nano-sized structures using films of chalcogenide glassy semiconductors

The analysis of methods of micro- and nanorelief structures recording at chalcogenide vitreous semiconductors films is presented. It is shown that exposing of the chalcogenide vitreous semiconductors films by optical radiation focused by diffraction limited optical systems allows to obtain prints wi...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2016
Автори: Petrov, V. V., Lytvyn, P. M., Trunov, M. L., Kryuchyn, A. A., Belyak, E. V., Rubish, V. M., Kostyukevych, S. O., Koptiukh, A. A.
Формат: Стаття
Мова:Ukrainian
Опубліковано: Інститут проблем реєстрації інформації НАН України 2016
Теми:
Онлайн доступ:http://drsp.ipri.kiev.ua/article/view/100341
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Data Recording, Storage & Processing

Репозитарії

Data Recording, Storage & Processing
id drspiprikievua-article-100341
record_format ojs
spelling drspiprikievua-article-1003412020-12-29T20:55:47Z Preparation methods for nano-sized structures using films of chalcogenide glassy semiconductors Методы формирования наноразмерных структур на пленках халькогенидных стеклообразных полупроводников Методи формування нанорозмірних структур на плівках халькогенідних склоподібних напівпровідників Petrov, V. V. Lytvyn, P. M. Trunov, M. L. Kryuchyn, A. A. Belyak, E. V. Rubish, V. M. Kostyukevych, S. O. Koptiukh, A. A. nanorelief structures chalcogenide vitreous semiconductors near-field probes AFM lithography нанорельефные структуры халькогенидные стеклообразные полупроводники ближнеполевые зонды атомно-силовая литография нанорельєфні структури халькогенідні склоподібні напівпровідники ближньопольові зонди атомно-силова літографія The analysis of methods of micro- and nanorelief structures recording at chalcogenide vitreous semiconductors films is presented. It is shown that exposing of the chalcogenide vitreous semiconductors films by optical radiation focused by diffraction limited optical systems allows to obtain prints with much smaller size than the diffraction boundary by using of the photosensitive materials exposure characte-ristics nonlinearity. The data of the recording nanosize structures by near field and electron beam systems are revealed. Fig.: 6. Refs: 28 titles. Представлен анализ методов записи микро- и нанорельефных структур на пленках халькогенидных стеклообразных полупроводников. Показано, что при экспонировании пленок халькогенидных стеклообразных полупроводников оптическим излучением, сфокусированным дифракционно ограниченными оптическими системами, отпечатки, размеры которых значительно меньше дифракционной границы, могут быть получены при использовании нелинейности экспозиционной характеристики фоточувствительных материалов. Приведены данные о записи наноразмерных структур ближнеполевыми и электронно-лучевыми фокусирующими системами. Ил.: 6. Библиогр.: 28 наим. Представлено аналіз методів запису мікро- та нанорельєфних структур на плівках халькогенідних склоподібних напівпровідників. Показано, що при експонуванні плівок халькогенідних склоподібних напівпровідників оптичним випромінюванням, яке сфокусовано дифракційно обмеженими оптичними системами, відбитки, розміри яких значно менші дифракційної межі, можуть бути отримані при використанні нелінійності експозиційної характеристики фоточутливих матеріалів. Наведено дані про запис нанорозмірних структур ближньопольовими та електронно-променевими фокусувальними системами. Інститут проблем реєстрації інформації НАН України 2016-02-02 Article Article application/pdf http://drsp.ipri.kiev.ua/article/view/100341 10.35681/1560-9189.2016.18.1.100341 Data Recording, Storage & Processing; Vol. 18 No. 1 (2016); 3-13 Регистрация, хранение и обработка данных; Том 18 № 1 (2016); 3-13 Реєстрація, зберігання і обробка даних; Том 18 № 1 (2016); 3-13 1560-9189 uk http://drsp.ipri.kiev.ua/article/view/100341/95487 Авторське право (c) 2021 Реєстрація, зберігання і обробка даних
institution Data Recording, Storage & Processing
collection OJS
language Ukrainian
topic nanorelief structures
chalcogenide vitreous semiconductors
near-field probes
AFM lithography
нанорельефные структуры
халькогенидные стеклообразные полупроводники
ближнеполевые зонды
атомно-силовая литография
нанорельєфні структури
халькогенідні склоподібні напівпровідники ближньопольові зонди
атомно-силова літографія
spellingShingle nanorelief structures
chalcogenide vitreous semiconductors
near-field probes
AFM lithography
нанорельефные структуры
халькогенидные стеклообразные полупроводники
ближнеполевые зонды
атомно-силовая литография
нанорельєфні структури
халькогенідні склоподібні напівпровідники ближньопольові зонди
атомно-силова літографія
Petrov, V. V.
Lytvyn, P. M.
Trunov, M. L.
Kryuchyn, A. A.
Belyak, E. V.
Rubish, V. M.
Kostyukevych, S. O.
Koptiukh, A. A.
Preparation methods for nano-sized structures using films of chalcogenide glassy semiconductors
topic_facet nanorelief structures
chalcogenide vitreous semiconductors
near-field probes
AFM lithography
нанорельефные структуры
халькогенидные стеклообразные полупроводники
ближнеполевые зонды
атомно-силовая литография
нанорельєфні структури
халькогенідні склоподібні напівпровідники ближньопольові зонди
атомно-силова літографія
format Article
author Petrov, V. V.
Lytvyn, P. M.
Trunov, M. L.
Kryuchyn, A. A.
Belyak, E. V.
Rubish, V. M.
Kostyukevych, S. O.
Koptiukh, A. A.
author_facet Petrov, V. V.
Lytvyn, P. M.
Trunov, M. L.
Kryuchyn, A. A.
Belyak, E. V.
Rubish, V. M.
Kostyukevych, S. O.
Koptiukh, A. A.
author_sort Petrov, V. V.
title Preparation methods for nano-sized structures using films of chalcogenide glassy semiconductors
title_short Preparation methods for nano-sized structures using films of chalcogenide glassy semiconductors
title_full Preparation methods for nano-sized structures using films of chalcogenide glassy semiconductors
title_fullStr Preparation methods for nano-sized structures using films of chalcogenide glassy semiconductors
title_full_unstemmed Preparation methods for nano-sized structures using films of chalcogenide glassy semiconductors
title_sort preparation methods for nano-sized structures using films of chalcogenide glassy semiconductors
title_alt Методы формирования наноразмерных структур на пленках халькогенидных стеклообразных полупроводников
Методи формування нанорозмірних структур на плівках халькогенідних склоподібних напівпровідників
description The analysis of methods of micro- and nanorelief structures recording at chalcogenide vitreous semiconductors films is presented. It is shown that exposing of the chalcogenide vitreous semiconductors films by optical radiation focused by diffraction limited optical systems allows to obtain prints with much smaller size than the diffraction boundary by using of the photosensitive materials exposure characte-ristics nonlinearity. The data of the recording nanosize structures by near field and electron beam systems are revealed. Fig.: 6. Refs: 28 titles.
publisher Інститут проблем реєстрації інформації НАН України
publishDate 2016
url http://drsp.ipri.kiev.ua/article/view/100341
work_keys_str_mv AT petrovvv preparationmethodsfornanosizedstructuresusingfilmsofchalcogenideglassysemiconductors
AT lytvynpm preparationmethodsfornanosizedstructuresusingfilmsofchalcogenideglassysemiconductors
AT trunovml preparationmethodsfornanosizedstructuresusingfilmsofchalcogenideglassysemiconductors
AT kryuchynaa preparationmethodsfornanosizedstructuresusingfilmsofchalcogenideglassysemiconductors
AT belyakev preparationmethodsfornanosizedstructuresusingfilmsofchalcogenideglassysemiconductors
AT rubishvm preparationmethodsfornanosizedstructuresusingfilmsofchalcogenideglassysemiconductors
AT kostyukevychso preparationmethodsfornanosizedstructuresusingfilmsofchalcogenideglassysemiconductors
AT koptiukhaa preparationmethodsfornanosizedstructuresusingfilmsofchalcogenideglassysemiconductors
AT petrovvv metodyformirovaniânanorazmernyhstrukturnaplenkahhalʹkogenidnyhstekloobraznyhpoluprovodnikov
AT lytvynpm metodyformirovaniânanorazmernyhstrukturnaplenkahhalʹkogenidnyhstekloobraznyhpoluprovodnikov
AT trunovml metodyformirovaniânanorazmernyhstrukturnaplenkahhalʹkogenidnyhstekloobraznyhpoluprovodnikov
AT kryuchynaa metodyformirovaniânanorazmernyhstrukturnaplenkahhalʹkogenidnyhstekloobraznyhpoluprovodnikov
AT belyakev metodyformirovaniânanorazmernyhstrukturnaplenkahhalʹkogenidnyhstekloobraznyhpoluprovodnikov
AT rubishvm metodyformirovaniânanorazmernyhstrukturnaplenkahhalʹkogenidnyhstekloobraznyhpoluprovodnikov
AT kostyukevychso metodyformirovaniânanorazmernyhstrukturnaplenkahhalʹkogenidnyhstekloobraznyhpoluprovodnikov
AT koptiukhaa metodyformirovaniânanorazmernyhstrukturnaplenkahhalʹkogenidnyhstekloobraznyhpoluprovodnikov
AT petrovvv metodiformuvannânanorozmírnihstrukturnaplívkahhalʹkogenídnihsklopodíbnihnapívprovídnikív
AT lytvynpm metodiformuvannânanorozmírnihstrukturnaplívkahhalʹkogenídnihsklopodíbnihnapívprovídnikív
AT trunovml metodiformuvannânanorozmírnihstrukturnaplívkahhalʹkogenídnihsklopodíbnihnapívprovídnikív
AT kryuchynaa metodiformuvannânanorozmírnihstrukturnaplívkahhalʹkogenídnihsklopodíbnihnapívprovídnikív
AT belyakev metodiformuvannânanorozmírnihstrukturnaplívkahhalʹkogenídnihsklopodíbnihnapívprovídnikív
AT rubishvm metodiformuvannânanorozmírnihstrukturnaplívkahhalʹkogenídnihsklopodíbnihnapívprovídnikív
AT kostyukevychso metodiformuvannânanorozmírnihstrukturnaplívkahhalʹkogenídnihsklopodíbnihnapívprovídnikív
AT koptiukhaa metodiformuvannânanorozmírnihstrukturnaplívkahhalʹkogenídnihsklopodíbnihnapívprovídnikív
first_indexed 2024-04-21T19:33:15Z
last_indexed 2024-04-21T19:33:15Z
_version_ 1796974046354604032