Automation of measurements of the rate of thin films chemical etching
The peculiarities of the interference method application for the processes of controlling the thin films thickness and measuring their etching rate are analyzed. The possibilities of complete automation of such processes during chemical etching of various types of substances have been investigated....
Збережено в:
| Дата: | 2024 |
|---|---|
| Автори: | , , , , , , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Ukrainian |
| Опубліковано: |
Інститут проблем реєстрації інформації НАН України
2024
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | http://drsp.ipri.kiev.ua/article/view/316977 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Data Recording, Storage & Processing |
Репозитарії
Data Recording, Storage & Processing| id |
drspiprikievua-article-316977 |
|---|---|
| record_format |
ojs |
| spelling |
drspiprikievua-article-3169772024-12-22T06:30:36Z Automation of measurements of the rate of thin films chemical etching Автоматизація вимірювань швидкості хімічного травлення тонких плівок Іваницький, В. П. Рубіш, В. М. Тарнай, А. А. Чичура, І. І. Рубіш, В. В. Далекорей, А. В. Мешко, Р. О. Рябощук, М. М. Цигика, В. В. automation of chemical etching processes, chalcogenide amorphous films, photoresists, interference methods of thickness control автоматизація процесів хімічного травлення, халькогенідні аморфні плівки, фоторезисти, інтерференційні методи контролю товщини The peculiarities of the interference method application for the processes of controlling the thin films thickness and measuring their etching rate are analyzed. The possibilities of complete automation of such processes during chemical etching of various types of substances have been investigated. In the course of research, an optical structural diagram of the interference method was developed, which is optimal for automatic measurement of the thin films etching rate. This optical scheme is implemented with normal incidence of optical probing radiation on the test sample in the form of a substrate with a thin film. It is recommended to use optical fibers as elements of the entire optical path of the scheme. Within the framework of the proposed optical scheme, changes in the interference pattern on As2S3 thin films during their chemical etching in an aqueous solution of sodium carbonate were experimentally investigated. The behavior of the intensity of interference during the etching process indicates the prospects of using the interference method to create automatic devices for measuring the speed and dynamics of thin film etching in real time. The estimated absolute error of automatic etching rate measurements does not exceed ±0,5 nm/s. A limitation of the researched method was noted — the presence of a transparency window in some optical spectral range in the studied samples. The proposed approaches are suitable for designing devices for automatic control of chemical etching processes of various substances and for creating algorithms for the functioning of such devices. Tabl.: 1. Fig.: 3. Refs: 9 titles. Проаналізовано особливості застосування інтерференційного методу для контролю товщини тонких плівок і вимірювань їхньої швидкості травлення. Розроблено оптичну структурну схему інтерференційного методу, яка є оптимальною для автоматичного вимірювання швид-кості травлення тонких плівок. Як елементи всього оптичного тракту схеми рекомендовано застосовувати оптичні волокна. Експеримен-тально досліджено закономірності змін інтерференційної картини на тонких плівках As2S3 під час їхнього хімічного травлення у водному розчині карбонату натрію. Проведено оцінку абсолютної похибки автоматичних вимірювань швидкості травлення, яка не перевищує ± 0,5 нм/с. Показано, що запропоновані підходи придатні для проектування пристроїв автоматичного контролю процесів хімічного травлення різних речовин. Інститут проблем реєстрації інформації НАН України 2024-11-19 Article Article application/pdf http://drsp.ipri.kiev.ua/article/view/316977 10.35681/1560-9189.2024.26.2.316977 Data Recording, Storage & Processing; Vol. 26 No. 2 (2024); 81-91 Регистрация, хранение и обработка данных; Том 26 № 2 (2024); 81-91 Реєстрація, зберігання і обробка даних; Том 26 № 2 (2024); 81-91 1560-9189 uk http://drsp.ipri.kiev.ua/article/view/316977/308968 Авторське право (c) 2024 Реєстрація, зберігання і обробка даних |
| institution |
Data Recording, Storage & Processing |
| baseUrl_str |
|
| datestamp_date |
2024-12-22T06:30:36Z |
| collection |
OJS |
| language |
Ukrainian |
| topic |
automation of chemical etching processes chalcogenide amorphous films photoresists interference methods of thickness control |
| spellingShingle |
automation of chemical etching processes chalcogenide amorphous films photoresists interference methods of thickness control Іваницький, В. П. Рубіш, В. М. Тарнай, А. А. Чичура, І. І. Рубіш, В. В. Далекорей, А. В. Мешко, Р. О. Рябощук, М. М. Цигика, В. В. Automation of measurements of the rate of thin films chemical etching |
| topic_facet |
automation of chemical etching processes chalcogenide amorphous films photoresists interference methods of thickness control автоматизація процесів хімічного травлення халькогенідні аморфні плівки фоторезисти інтерференційні методи контролю товщини |
| format |
Article |
| author |
Іваницький, В. П. Рубіш, В. М. Тарнай, А. А. Чичура, І. І. Рубіш, В. В. Далекорей, А. В. Мешко, Р. О. Рябощук, М. М. Цигика, В. В. |
| author_facet |
Іваницький, В. П. Рубіш, В. М. Тарнай, А. А. Чичура, І. І. Рубіш, В. В. Далекорей, А. В. Мешко, Р. О. Рябощук, М. М. Цигика, В. В. |
| author_sort |
Іваницький, В. П. |
| title |
Automation of measurements of the rate of thin films chemical etching |
| title_short |
Automation of measurements of the rate of thin films chemical etching |
| title_full |
Automation of measurements of the rate of thin films chemical etching |
| title_fullStr |
Automation of measurements of the rate of thin films chemical etching |
| title_full_unstemmed |
Automation of measurements of the rate of thin films chemical etching |
| title_sort |
automation of measurements of the rate of thin films chemical etching |
| title_alt |
Автоматизація вимірювань швидкості хімічного травлення тонких плівок |
| description |
The peculiarities of the interference method application for the processes of controlling the thin films thickness and measuring their etching rate are analyzed. The possibilities of complete automation of such processes during chemical etching of various types of substances have been investigated. In the course of research, an optical structural diagram of the interference method was developed, which is optimal for automatic measurement of the thin films etching rate. This optical scheme is implemented with normal incidence of optical probing radiation on the test sample in the form of a substrate with a thin film. It is recommended to use optical fibers as elements of the entire optical path of the scheme. Within the framework of the proposed optical scheme, changes in the interference pattern on As2S3 thin films during their chemical etching in an aqueous solution of sodium carbonate were experimentally investigated. The behavior of the intensity of interference during the etching process indicates the prospects of using the interference method to create automatic devices for measuring the speed and dynamics of thin film etching in real time. The estimated absolute error of automatic etching rate measurements does not exceed ±0,5 nm/s. A limitation of the researched method was noted — the presence of a transparency window in some optical spectral range in the studied samples. The proposed approaches are suitable for designing devices for automatic control of chemical etching processes of various substances and for creating algorithms for the functioning of such devices. Tabl.: 1. Fig.: 3. Refs: 9 titles. |
| publisher |
Інститут проблем реєстрації інформації НАН України |
| publishDate |
2024 |
| url |
http://drsp.ipri.kiev.ua/article/view/316977 |
| work_keys_str_mv |
AT ívanicʹkijvp automationofmeasurementsoftherateofthinfilmschemicaletching AT rubíšvm automationofmeasurementsoftherateofthinfilmschemicaletching AT tarnajaa automationofmeasurementsoftherateofthinfilmschemicaletching AT čičuraíí automationofmeasurementsoftherateofthinfilmschemicaletching AT rubíšvv automationofmeasurementsoftherateofthinfilmschemicaletching AT dalekorejav automationofmeasurementsoftherateofthinfilmschemicaletching AT meškoro automationofmeasurementsoftherateofthinfilmschemicaletching AT râboŝukmm automationofmeasurementsoftherateofthinfilmschemicaletching AT cigikavv automationofmeasurementsoftherateofthinfilmschemicaletching AT ívanicʹkijvp avtomatizacíâvimírûvanʹšvidkostíhímíčnogotravlennâtonkihplívok AT rubíšvm avtomatizacíâvimírûvanʹšvidkostíhímíčnogotravlennâtonkihplívok AT tarnajaa avtomatizacíâvimírûvanʹšvidkostíhímíčnogotravlennâtonkihplívok AT čičuraíí avtomatizacíâvimírûvanʹšvidkostíhímíčnogotravlennâtonkihplívok AT rubíšvv avtomatizacíâvimírûvanʹšvidkostíhímíčnogotravlennâtonkihplívok AT dalekorejav avtomatizacíâvimírûvanʹšvidkostíhímíčnogotravlennâtonkihplívok AT meškoro avtomatizacíâvimírûvanʹšvidkostíhímíčnogotravlennâtonkihplívok AT râboŝukmm avtomatizacíâvimírûvanʹšvidkostíhímíčnogotravlennâtonkihplívok AT cigikavv avtomatizacíâvimírûvanʹšvidkostíhímíčnogotravlennâtonkihplívok |
| first_indexed |
2024-12-23T04:04:10Z |
| last_indexed |
2024-12-23T04:04:10Z |
| _version_ |
1820923757411172352 |