Automation of measurements of the rate of thin films chemical etching
The peculiarities of the interference method application for the processes of controlling the thin films thickness and measuring their etching rate are analyzed. The possibilities of complete automation of such processes during chemical etching of various types of substances have been investigated....
Збережено в:
Дата: | 2024 |
---|---|
Автори: | Іваницький, В. П., Рубіш, В. М., Тарнай, А. А., Чичура, І. І., Рубіш, В. В., Далекорей, А. В., Мешко, Р. О., Рябощук, М. М., Цигика, В. В. |
Формат: | Стаття |
Мова: | Ukrainian |
Опубліковано: |
Інститут проблем реєстрації інформації НАН України
2024
|
Теми: | |
Онлайн доступ: | http://drsp.ipri.kiev.ua/article/view/316977 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Data Recording, Storage & Processing |
Репозитарії
Data Recording, Storage & ProcessingСхожі ресурси
-
Investigation of the process of microrelief structures formation in chromium films based on the method of chemical etching
за авторством: Панкратова, А. В., та інші
Опубліковано: (2021) -
Laser-induced changes in optical properties of amorphous films of the system Ge-Se
за авторством: Рубіш, В. М., та інші
Опубліковано: (2024) -
Influence of laser radiation and mercury vapors on the structure of se100-xtex amorphous films
за авторством: Рубіш, В. М., та інші
Опубліковано: (2022) -
Спектроскопiчнi дослiдження плазми високочастотного розряду при плазмохiмiчному травленнi епiтаксiальних структур нiтриду галiю
за авторством: Hladkovskiy, V. V., та інші
Опубліковано: (2018) -
Взаємодія халькогенідних плівок As4Se96 з електронним пучком при використанні їх у ролі електронних резистів
за авторством: Bilanych, B. V., та інші
Опубліковано: (2020)