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Automation of measurements of the rate of thin films chemical etching

The peculiarities of the interference method application for the processes of controlling the thin films thickness and measuring their etching rate are analyzed. The possibilities of complete automation of such processes during chemical etching of various types of substances have been investigated....

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Datum:	2024
Hauptverfasser:	Іваницький, В. П., Рубіш, В. М., Тарнай, А. А., Чичура, І. І., Рубіш, В. В., Далекорей, А. В., Мешко, Р. О., Рябощук, М. М., Цигика, В. В.
Format:	Artikel
Sprache:	Ukrainisch
Veröffentlicht:	Інститут проблем реєстрації інформації НАН України 2024
Schlagworte:	automation of chemical etching processes chalcogenide amorphous films photoresists interference methods of thickness control
Online Zugang:	http://drsp.ipri.kiev.ua/article/view/316977
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Назва журналу:	Data Recording, Storage & Processing

Institution

Data Recording, Storage & Processing

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