Тепловое уширение плотности состояний и температурная зависимость ширины запрещенной зоны

Моделированием процесса термического уширения плотности состояний полупроводника, исследована температурная зависимость ширины запрещенной зоны Ge. Численным анализом установлено, что нелинейная зависимость ширины запрещенной зоны Ge при низких температурах обусловлена наличием энергетических уровне...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Видавець:Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
Дата:2012
Автори: Гулямов, Г., Шарибаев, Н.Ю., Эркабоев, У.И.
Формат: Стаття
Мова:Russian
Опубліковано: Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України 2012
Назва видання:Физическая инженерия поверхности
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/101872
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Цитувати:Тепловое уширение плотности состояний и температурная зависимость ширины запрещенной зоны / Г. Гулямов, Н.Ю. Шарибаев, У.И. Эркабоев // Физическая инженерия поверхности. — 2012. — Т. 10, № 4. — С. 366-370. — Бібліогр.: 8 назв. — рос.

Репозиторії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id irk-123456789-101872
record_format dspace
spelling irk-123456789-1018722016-06-09T03:02:25Z Тепловое уширение плотности состояний и температурная зависимость ширины запрещенной зоны Гулямов, Г. Шарибаев, Н.Ю. Эркабоев, У.И. Моделированием процесса термического уширения плотности состояний полупроводника, исследована температурная зависимость ширины запрещенной зоны Ge. Численным анализом установлено, что нелинейная зависимость ширины запрещенной зоны Ge при низких температурах обусловлена наличием энергетических уровней, в запрещенной зоне вблизи разрешенных зон. Результаты расчетов хорошо согласуются с экспериментальными данными. Моделюванням процесу термічного розширення щільності станів напівпровідника, досліджена температурна залежність ширини забороненої зони Ge. Чисельним аналізом установлено, що нелінійна залежність ширини забороненої зони Ge при низьких температурах зумовлена наявністю енергетичних рівнів, у забороненій зоні поблизу дозволених зон. Результати розрахунків добре погоджуються з експериментальними даними. Modeling of a thermal broadening of the density of states of the semiconductor temperature dependence of the band gap of Ge. The numerical analysis showed that the nonlinear dependence of the band gap Ge at low temperatures due to the presence of energy levels in the forbidden zone near the allowed bands. Results are in good agreement with the experimental data. 2012 Article Тепловое уширение плотности состояний и температурная зависимость ширины запрещенной зоны / Г. Гулямов, Н.Ю. Шарибаев, У.И. Эркабоев // Физическая инженерия поверхности. — 2012. — Т. 10, № 4. — С. 366-370. — Бібліогр.: 8 назв. — рос. 1999-8074 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/101872 539.21: 621.315.592 ru Физическая инженерия поверхности Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
language Russian
description Моделированием процесса термического уширения плотности состояний полупроводника, исследована температурная зависимость ширины запрещенной зоны Ge. Численным анализом установлено, что нелинейная зависимость ширины запрещенной зоны Ge при низких температурах обусловлена наличием энергетических уровней, в запрещенной зоне вблизи разрешенных зон. Результаты расчетов хорошо согласуются с экспериментальными данными.
format Article
author Гулямов, Г.
Шарибаев, Н.Ю.
Эркабоев, У.И.
spellingShingle Гулямов, Г.
Шарибаев, Н.Ю.
Эркабоев, У.И.
Тепловое уширение плотности состояний и температурная зависимость ширины запрещенной зоны
Физическая инженерия поверхности
author_facet Гулямов, Г.
Шарибаев, Н.Ю.
Эркабоев, У.И.
author_sort Гулямов, Г.
title Тепловое уширение плотности состояний и температурная зависимость ширины запрещенной зоны
title_short Тепловое уширение плотности состояний и температурная зависимость ширины запрещенной зоны
title_full Тепловое уширение плотности состояний и температурная зависимость ширины запрещенной зоны
title_fullStr Тепловое уширение плотности состояний и температурная зависимость ширины запрещенной зоны
title_full_unstemmed Тепловое уширение плотности состояний и температурная зависимость ширины запрещенной зоны
title_sort тепловое уширение плотности состояний и температурная зависимость ширины запрещенной зоны
publisher Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
publishDate 2012
url http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/101872
citation_txt Тепловое уширение плотности состояний и температурная зависимость ширины запрещенной зоны / Г. Гулямов, Н.Ю. Шарибаев, У.И. Эркабоев // Физическая инженерия поверхности. — 2012. — Т. 10, № 4. — С. 366-370. — Бібліогр.: 8 назв. — рос.
series Физическая инженерия поверхности
work_keys_str_mv AT gulâmovg teplovoeuširenieplotnostisostoânijitemperaturnaâzavisimostʹširinyzapreŝennojzony
AT šaribaevnû teplovoeuširenieplotnostisostoânijitemperaturnaâzavisimostʹširinyzapreŝennojzony
AT érkaboevui teplovoeuširenieplotnostisostoânijitemperaturnaâzavisimostʹširinyzapreŝennojzony
first_indexed 2024-03-30T08:56:09Z
last_indexed 2024-03-30T08:56:09Z
_version_ 1796148815875538944