Низкотемпературное магнетронное осаждение наноструктурных пленок Ni–C: синтез, структура и магнитные свойства

С помощью магнетронного распыления композитной Ni–C-мишени были выращены три группы пленок с отношением C/Ni (vol.%) = 30/70; 40/60; 60/40. Методом атомной силовой микроскопии (AFM) установлен кластерный характер осаждения пленок на поверхность подложки. Рентгеноструктурный анализ трех групп пленок...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2015
Автори: Прудников, А.М., Линник, А.И., Шалаев, Р.В., Пашкевич, Ю.Г., Варюхин, В.Н., Мохненко, М.И., Костыря, С.А., Линник, Т.А.
Формат: Стаття
Мова:Russian
Опубліковано: Донецький фізико-технічний інститут ім. О.О. Галкіна НАН України 2015
Назва видання:Физика и техника высоких давлений
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/107403
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Низкотемпературное магнетронное осаждение наноструктурных пленок Ni–C: синтез, структура и магнитные свойства / А.М. Прудников, А.И. Линник, Р.В. Шалаев, Ю.Г. Пашкевич, В.Н. Варюхин, М.И. Мохненко, С.А. Костыря, Т.А. Линник // Физика и техника высоких давлений. — 2015. — Т. 25, № 3-4. — С. 102-111. — Бібліогр.: 13 назв. — рос.

Репозиторії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine