Іонно-плазмова система для реактивного магнетронного нанесення покриттів
В роботі представлено результати розробки та дослідження багатофункціональної іонно-плазмової технологічної системи, до складу якої входять наступні компліментарні плазмові модулі: два незбалансованих магнетрони низького тиску; джерело плазми та активованих частинок на базі ВЧ індукційного розряду;...
Збережено в:
| Дата: | 2014 |
|---|---|
| Автори: | , , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Ukrainian |
| Опубліковано: |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
2014
|
| Назва видання: | Физическая инженерия поверхности |
| Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/108484 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Іонно-плазмова система для реактивного магнетронного нанесення покриттів / С.Д. Яковін, О.В. Зиков, С.В. Дудін, В.І. Фаренік, М.М. Юнаков // Физическая инженерия поверхности. — 2014. — Т. 12, № 3. — С. 428-439. — Бібліогр.: 15 назв. — укр. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| id |
irk-123456789-108484 |
|---|---|
| record_format |
dspace |
| spelling |
irk-123456789-1084842016-11-06T03:02:23Z Іонно-плазмова система для реактивного магнетронного нанесення покриттів Яковін, С.Д. Зиков, О.В. Дудін, С.В. Фаренік, В.І. Юнаков, М.М. В роботі представлено результати розробки та дослідження багатофункціональної іонно-плазмової технологічної системи, до складу якої входять наступні компліментарні плазмові модулі: два незбалансованих магнетрони низького тиску; джерело плазми та активованих частинок на базі ВЧ індукційного розряду; джерело іонів середніх енергій на базі розряду в схрещених ЕН полях; система імпульсної поляризації зразків. Було досліджено характеристики окремих плазмових модулів та показано можливість їх сумісної дії в процесах реактивного іонно-плазмового синтезу покриттів. Робочий діапазон параметрів багатофункціональної іонно-плазмової технологічної системи дозволяє в єдиному циклі проводити очистку та активацію поверхні, що обробляється, наносити металеві, діелектричні складнокомпозіційні та багатошарові покриття з унікальними властивостями. В работе представлены результаты разработки и исследования многофункциональной ионно-плазменной технологической системы, в состав которой входят следующие комплементарные плазменные модули: два несбалансированных магнетрона низкого давления; источник плазмы и активированных частиц на базе ВЧ индукционного разряда; источник ионов средних энергий на базе разряда в скрещенных ЕН полях; система импульсной поляризации образцов. Были исследованы характеристики отдельных плазменных модулей и показана возможность их совместного действия в процессах реактивного ионно-плазменного синтеза покрытий. Рабочий диапазон параметров многофункциональной ионно-плазменной технологической системы позволяет в едином цикле проводить очистку и активацию обрабатываемой поверхности, наносить металлические, диэлектрические, сложнокомпозиционные и многослойные покрытия с уникальными свойствами. The paper presents the results of research and development of multi-functional ion-plasma processing system, which includes the following complementary plasma modules: two low-pressure unbalanced magnetrons; source of plasma and activated particles on the basis of RF inductive discharge; medium energy ion source based on discharge in crossed EH fields; system of pulsed polarization of samples. We investigated the characteristics of the individual plasma modules and the possibility of their joint operation during reactive ion-plasma coating synthesis. The multipurpose ion-plasma processing system allows in a single cycle to clean and activate the processed surface, deposit metal, dielectric, complex-composite and multilayer coatings with unique properties. 2014 Article Іонно-плазмова система для реактивного магнетронного нанесення покриттів / С.Д. Яковін, О.В. Зиков, С.В. Дудін, В.І. Фаренік, М.М. Юнаков // Физическая инженерия поверхности. — 2014. — Т. 12, № 3. — С. 428-439. — Бібліогр.: 15 назв. — укр. 1999-8074 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/108484 533.924 uk Физическая инженерия поверхности Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України |
| institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| collection |
DSpace DC |
| language |
Ukrainian |
| description |
В роботі представлено результати розробки та дослідження багатофункціональної іонно-плазмової технологічної системи, до складу якої входять наступні компліментарні плазмові модулі: два незбалансованих магнетрони низького тиску; джерело плазми та активованих частинок на базі ВЧ індукційного розряду; джерело іонів середніх енергій на базі розряду в схрещених ЕН полях; система імпульсної поляризації зразків. Було досліджено характеристики окремих плазмових модулів та показано можливість їх сумісної дії в процесах реактивного іонно-плазмового синтезу покриттів. Робочий діапазон параметрів багатофункціональної іонно-плазмової технологічної системи дозволяє в єдиному циклі проводити очистку та активацію поверхні, що обробляється, наносити металеві, діелектричні складнокомпозіційні та багатошарові покриття з унікальними властивостями. |
| format |
Article |
| author |
Яковін, С.Д. Зиков, О.В. Дудін, С.В. Фаренік, В.І. Юнаков, М.М. |
| spellingShingle |
Яковін, С.Д. Зиков, О.В. Дудін, С.В. Фаренік, В.І. Юнаков, М.М. Іонно-плазмова система для реактивного магнетронного нанесення покриттів Физическая инженерия поверхности |
| author_facet |
Яковін, С.Д. Зиков, О.В. Дудін, С.В. Фаренік, В.І. Юнаков, М.М. |
| author_sort |
Яковін, С.Д. |
| title |
Іонно-плазмова система для реактивного магнетронного нанесення покриттів |
| title_short |
Іонно-плазмова система для реактивного магнетронного нанесення покриттів |
| title_full |
Іонно-плазмова система для реактивного магнетронного нанесення покриттів |
| title_fullStr |
Іонно-плазмова система для реактивного магнетронного нанесення покриттів |
| title_full_unstemmed |
Іонно-плазмова система для реактивного магнетронного нанесення покриттів |
| title_sort |
іонно-плазмова система для реактивного магнетронного нанесення покриттів |
| publisher |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України |
| publishDate |
2014 |
| url |
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/108484 |
| citation_txt |
Іонно-плазмова система для реактивного магнетронного нанесення покриттів / С.Д. Яковін, О.В. Зиков, С.В. Дудін, В.І. Фаренік, М.М. Юнаков // Физическая инженерия поверхности. — 2014. — Т. 12, № 3. — С. 428-439. — Бібліогр.: 15 назв. — укр. |
| series |
Физическая инженерия поверхности |
| work_keys_str_mv |
AT âkovínsd íonnoplazmovasistemadlâreaktivnogomagnetronnogonanesennâpokrittív AT zikovov íonnoplazmovasistemadlâreaktivnogomagnetronnogonanesennâpokrittív AT dudínsv íonnoplazmovasistemadlâreaktivnogomagnetronnogonanesennâpokrittív AT fareníkví íonnoplazmovasistemadlâreaktivnogomagnetronnogonanesennâpokrittív AT ûnakovmm íonnoplazmovasistemadlâreaktivnogomagnetronnogonanesennâpokrittív |
| first_indexed |
2023-10-18T20:17:42Z |
| last_indexed |
2023-10-18T20:17:42Z |
| _version_ |
1796149481388900352 |