2025-02-23T17:13:23-05:00 DEBUG: VuFindSearch\Backend\Solr\Connector: Query fl=%2A&wt=json&json.nl=arrarr&q=id%3A%22irk-123456789-108484%22&qt=morelikethis&rows=5
2025-02-23T17:13:23-05:00 DEBUG: VuFindSearch\Backend\Solr\Connector: => GET http://localhost:8983/solr/biblio/select?fl=%2A&wt=json&json.nl=arrarr&q=id%3A%22irk-123456789-108484%22&qt=morelikethis&rows=5
2025-02-23T17:13:23-05:00 DEBUG: VuFindSearch\Backend\Solr\Connector: <= 200 OK
2025-02-23T17:13:23-05:00 DEBUG: Deserialized SOLR response
Іонно-плазмова система для реактивного магнетронного нанесення покриттів

Іонно-плазмова система для реактивного магнетронного нанесення покриттів

В роботі представлено результати розробки та дослідження багатофункціональної іонно-плазмової технологічної системи, до складу якої входять наступні компліментарні плазмові модулі: два незбалансованих магнетрони низького тиску; джерело плазми та активованих частинок на базі ВЧ індукційного розряду;...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Main Authors: Яковін, С.Д., Зиков, О.В., Дудін, С.В., Фаренік, В.І., Юнаков, М.М.
Format: Article
Language:Ukrainian
Published: Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України 2014
Series:Физическая инженерия поверхности
Online Access:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/108484
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
id irk-123456789-108484
record_format dspace
spelling irk-123456789-1084842016-11-06T03:02:23Z Іонно-плазмова система для реактивного магнетронного нанесення покриттів Яковін, С.Д. Зиков, О.В. Дудін, С.В. Фаренік, В.І. Юнаков, М.М. В роботі представлено результати розробки та дослідження багатофункціональної іонно-плазмової технологічної системи, до складу якої входять наступні компліментарні плазмові модулі: два незбалансованих магнетрони низького тиску; джерело плазми та активованих частинок на базі ВЧ індукційного розряду; джерело іонів середніх енергій на базі розряду в схрещених ЕН полях; система імпульсної поляризації зразків. Було досліджено характеристики окремих плазмових модулів та показано можливість їх сумісної дії в процесах реактивного іонно-плазмового синтезу покриттів. Робочий діапазон параметрів багатофункціональної іонно-плазмової технологічної системи дозволяє в єдиному циклі проводити очистку та активацію поверхні, що обробляється, наносити металеві, діелектричні складнокомпозіційні та багатошарові покриття з унікальними властивостями. В работе представлены результаты разработки и исследования многофункциональной ионно-плазменной технологической системы, в состав которой входят следующие комплементарные плазменные модули: два несбалансированных магнетрона низкого давления; источник плазмы и активированных частиц на базе ВЧ индукционного разряда; источник ионов средних энергий на базе разряда в скрещенных ЕН полях; система импульсной поляризации образцов. Были исследованы характеристики отдельных плазменных модулей и показана возможность их совместного действия в процессах реактивного ионно-плазменного синтеза покрытий. Рабочий диапазон параметров многофункциональной ионно-плазменной технологической системы позволяет в едином цикле проводить очистку и активацию обрабатываемой поверхности, наносить металлические, диэлектрические, сложнокомпозиционные и многослойные покрытия с уникальными свойствами. The paper presents the results of research and development of multi-functional ion-plasma processing system, which includes the following complementary plasma modules: two low-pressure unbalanced magnetrons; source of plasma and activated particles on the basis of RF inductive discharge; medium energy ion source based on discharge in crossed EH fields; system of pulsed polarization of samples. We investigated the characteristics of the individual plasma modules and the possibility of their joint operation during reactive ion-plasma coating synthesis. The multipurpose ion-plasma processing system allows in a single cycle to clean and activate the processed surface, deposit metal, dielectric, complex-composite and multilayer coatings with unique properties. 2014 Article Іонно-плазмова система для реактивного магнетронного нанесення покриттів / С.Д. Яковін, О.В. Зиков, С.В. Дудін, В.І. Фаренік, М.М. Юнаков // Физическая инженерия поверхности. — 2014. — Т. 12, № 3. — С. 428-439. — Бібліогр.: 15 назв. — укр. 1999-8074 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/108484 533.924 uk Физическая инженерия поверхности Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
language Ukrainian
description В роботі представлено результати розробки та дослідження багатофункціональної іонно-плазмової технологічної системи, до складу якої входять наступні компліментарні плазмові модулі: два незбалансованих магнетрони низького тиску; джерело плазми та активованих частинок на базі ВЧ індукційного розряду; джерело іонів середніх енергій на базі розряду в схрещених ЕН полях; система імпульсної поляризації зразків. Було досліджено характеристики окремих плазмових модулів та показано можливість їх сумісної дії в процесах реактивного іонно-плазмового синтезу покриттів. Робочий діапазон параметрів багатофункціональної іонно-плазмової технологічної системи дозволяє в єдиному циклі проводити очистку та активацію поверхні, що обробляється, наносити металеві, діелектричні складнокомпозіційні та багатошарові покриття з унікальними властивостями.
format Article
author Яковін, С.Д.
Зиков, О.В.
Дудін, С.В.
Фаренік, В.І.
Юнаков, М.М.
spellingShingle Яковін, С.Д.
Зиков, О.В.
Дудін, С.В.
Фаренік, В.І.
Юнаков, М.М.
Іонно-плазмова система для реактивного магнетронного нанесення покриттів
Физическая инженерия поверхности
author_facet Яковін, С.Д.
Зиков, О.В.
Дудін, С.В.
Фаренік, В.І.
Юнаков, М.М.
author_sort Яковін, С.Д.
title Іонно-плазмова система для реактивного магнетронного нанесення покриттів
title_short Іонно-плазмова система для реактивного магнетронного нанесення покриттів
title_full Іонно-плазмова система для реактивного магнетронного нанесення покриттів
title_fullStr Іонно-плазмова система для реактивного магнетронного нанесення покриттів
title_full_unstemmed Іонно-плазмова система для реактивного магнетронного нанесення покриттів
title_sort іонно-плазмова система для реактивного магнетронного нанесення покриттів
publisher Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
publishDate 2014
url http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/108484
citation_txt Іонно-плазмова система для реактивного магнетронного нанесення покриттів / С.Д. Яковін, О.В. Зиков, С.В. Дудін, В.І. Фаренік, М.М. Юнаков // Физическая инженерия поверхности. — 2014. — Т. 12, № 3. — С. 428-439. — Бібліогр.: 15 назв. — укр.
series Физическая инженерия поверхности
work_keys_str_mv AT âkovínsd íonnoplazmovasistemadlâreaktivnogomagnetronnogonanesennâpokrittív
AT zikovov íonnoplazmovasistemadlâreaktivnogomagnetronnogonanesennâpokrittív
AT dudínsv íonnoplazmovasistemadlâreaktivnogomagnetronnogonanesennâpokrittív
AT fareníkví íonnoplazmovasistemadlâreaktivnogomagnetronnogonanesennâpokrittív
AT ûnakovmm íonnoplazmovasistemadlâreaktivnogomagnetronnogonanesennâpokrittív
first_indexed 2023-10-18T20:17:42Z
last_indexed 2023-10-18T20:17:42Z
_version_ 1796149481388900352

Similar Items