Influence of external magnetic field on intensity and directivity of EUV radiation from high-current pulse plasma diode

• Видавець: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
• Дата: 2012
• Автори: Borgun, Ie.V., Azarenkov, N.A., Hassanein, A., Tseluyko, A.F., Maslov, V.I., Ryabchikov, D.L., Grechko, Y.
• Формат: Стаття
• Мова: English
• Опубліковано: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2012
• Назва видання: Вопросы атомной науки и техники
• Теми: Низкотемпературная плазма и плазменные технологии
• Онлайн доступ: http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/109212
• Цитувати: Influence of external magnetic field on intensity and directivity of EUV radiation from high-current pulse plasma diode / Ie.V. Borgun, N.A. Azarenkov, A. Hassanein, A.F. Tseluyko, V.I. Maslov, D.L. Ryabchikov, Y. Grechko // Вопросы атомной науки и техники. — 2012. — № 6. — С. 184-186. — Бібліогр.: 2 назв. — англ.

This work is devoted to evaluate the influence of the additional external magnetic field on dynamics of the radiation in the extreme ultraviolet (EUV) range from multi-charged tin plasma of high-current pulse diode. Investigations have shown that the use of an additional external magnetic field has...