Solid ion source based on hollow-cylindrical magnetron sputtering discharge
A new solid ion source is described. The ion source based on hollow-cylindrical magnetron sputtering discharge produces the beam of various solid ions (B, C, Si, Ti, V, Fe, Ni, Ta, W) which are then extracted by an ion optical accelerating system. In this ion source DC discharge is used for generati...
Збережено в:
Дата: | 2003 |
---|---|
Автори: | Azarenkov, N.A., Bizyukov, A.A., Bizyukov, I.A., Bobkov, V.V., Kashaba, A.E., Krieger, K., Sereda, K.N., Tarasov, I.K. |
Формат: | Стаття |
Мова: | English |
Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2003
|
Назва видання: | Вопросы атомной науки и техники |
Теми: | |
Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/110538 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
Цитувати: | Solid ion source based on hollow-cylindrical magnetron sputtering discharge / N.A. Azarenkov, A.A. Bizyukov, I.A. Bizyukov, V.V. Bobkov, A.E. Kashaba, K. Krieger, K.N. Sereda, I.K. Tarasov // Вопросы атомной науки и техники. — 2003. — № 1. — С. 125-127. — Бібліогр.: 5 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineСхожі ресурси
-
Features of high-current pulsed regimes in regimes in magnetron sputtering systems
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2005) -
Control of ionization processes in magnetron sputtering system by changing magnetic field configuration
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2021) -
Using of electron cyclotron resonance discharge in ion beam sputtering systems for space charge compensation
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2019) -
Influence of magnetic field configuration and strength on plasma parameters and efficiency of coatings deposition in magnetron sputtering system
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2022) -
Improvement of penning ion sources
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2000)