Production of metal and dielectric films in a combined RF and arc discharge

In the presentation we investigate the possibilities to deposit metallic and dielectric films on metal and dielectric materials by means of vacuum technology with application of high frequency (RF) electric fields. As a base-model the device “Bulat-6” was used with proper arc evaporators. The leadin...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2003
Автори: Gasilin, V.V., Kunchenko, V.V., Nezovybat’ko, Yu.N., Taran, A.V., Taran, V.S., Tereshin, V.I., Shvets, O.M.
Формат: Стаття
Мова:English
Опубліковано: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2003
Назва видання:Вопросы атомной науки и техники
Теми:
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/110611
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Production of metal and dielectric films in a combined RF and arc discharge / V.V. Gasilin, V.V. Kunchenko, Yu.N. Nezovybat’ko, A.V. Taran, V.S. Taran, V.I. Tereshin, O.M. Shvets // Вопросы атомной науки и техники. — 2003. — № 1. — С. 157-159. — Бібліогр.: 3 назв. — англ.

Репозиторії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine