Рентгенографический анализ периодических пленочных композиций W/Si
Методом рентгеновской дифрактометрии исследована структура пленок вольфрама и многослойных периодических W/Si-композиций, полученных методом магнетронного распыления. Показано, что химический и фазовый составы вольфрамовых слоев при неизменном давлении распыляющего газа ~0,35 Па определяяются скорос...
Збережено в:
Дата: | 2003 |
---|---|
Автори: | , , , |
Формат: | Стаття |
Мова: | Russian |
Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2003
|
Назва видання: | Вопросы атомной науки и техники |
Теми: | |
Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/110923 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
Цитувати: | Рентгенографический анализ периодических пленочных композиций W/Si / Е.Н. Решетняк, С.В. Малыхин, Ю.П. Першин, А.Т. Пугачев // Вопросы атомной науки и техники. — 2003. — № 3. — С.161-166. — Бібліогр.: 20 назв. — рос. |