Mass distribution of sputtered cathode material in the reflex discharge along the magnetic field mirror configuration

• Видавець: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
• Дата: 2016
• Автори: Kovtun, Yu.V, Skibenko, E.I., Skibenko, A.I., Kuprin, A.S., Ozerov, A.N., Syusko, E.V., Yuferov, V.B.
• Формат: Стаття
• Мова: English
• Опубліковано: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2016
• Назва видання: Вопросы атомной науки и техники
• Теми: Физика и технология конструкционных материалов
• Онлайн доступ: http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/111743
• Цитувати: Mass distribution of sputtered cathode material in the reflex discharge along the magnetic field mirror configuration / Yu.V. Kovtun, E.I. Skibenko, A.I. Skibenko, A.S. Kuprin, A.N. Ozerov, E.V. Syus’ko, V.B. Yuferov // Вопросы атомной науки и техники. — 2016. — № 1. — С. 92-98. — Бібліогр.: 20 назв. — рос.

The paper is concerned with the distribution of cathode material sputtered under the action of the pulsed reflex discharge plasma and deposited on the anode surface (vacuum chamber) by means of a set of discrete receiving plates. Correlative relationship has been found between the weight gain increa...