Mass distribution of sputtered cathode material in the reflex discharge along the magnetic field mirror configuration
The paper is concerned with the distribution of cathode material sputtered under the action of the pulsed reflex discharge plasma and deposited on the anode surface (vacuum chamber) by means of a set of discrete receiving plates. Correlative relationship has been found between the weight gain increa...
Збережено в:
| Видавець: | Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
|---|---|
| Дата: | 2016 |
| Автори: | , , , , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | English |
| Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2016
|
| Назва видання: | Вопросы атомной науки и техники |
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/111743 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Цитувати: | Mass distribution of sputtered cathode material in the reflex discharge along the magnetic field mirror configuration / Yu.V. Kovtun, E.I. Skibenko, A.I. Skibenko, A.S. Kuprin, A.N. Ozerov, E.V. Syus’ko, V.B. Yuferov // Вопросы атомной науки и техники. — 2016. — № 1. — С. 92-98. — Бібліогр.: 20 назв. — рос. |
Репозиторії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| id |
irk-123456789-111743 |
|---|---|
| record_format |
dspace |
| spelling |
irk-123456789-1117432017-01-15T03:02:35Z Mass distribution of sputtered cathode material in the reflex discharge along the magnetic field mirror configuration Kovtun, Yu.V Skibenko, E.I. Skibenko, A.I. Kuprin, A.S. Ozerov, A.N. Syusko, E.V. Yuferov, V.B. Физика и технология конструкционных материалов The paper is concerned with the distribution of cathode material sputtered under the action of the pulsed reflex discharge plasma and deposited on the anode surface (vacuum chamber) by means of a set of discrete receiving plates. Correlative relationship has been found between the weight gain increase of the receiving plates due to the deposition of cathode material (Ti) particles on them and the increasing magnetic field regions. The maximum possible sputtering yield Ycurr has been evaluated. The authors have deduced parametric dependences of the sputtering ratio on the power function exponent that determines the shape of the radial plasma-density profile, and also, on the magnetic field induction value. Досліджено розподіл розпорошеного матеріалу катодів під впливом плазми імпульсного відбивного розряду і осаджуваного на поверхні анода (вакуумної камери) за допомогою набору дискретних приймальних пластин. Встановлено кореляційний взаємозв’язок збільшення приросту маси приймальних пластин за рахунок осадження на них часток катодної речовини (Ti) і областей наростаючого магнітного поля. Проведена оцінка величини максимально можливого коефіцієнта розпорошення Υcurr. Одержані параметричні залежності коефіцієнта розпорошення від показника степеневої функції, який визначає форму радіального профілю густини плазми, і від величини індукції магнітного поля. Исследовано распределение распыленного материала катодов под воздействием плазмы импульсного отражательного разряда и осаждаемого на поверхности анода (вакуумной камеры) с помощью набора дискретных приемных пластин. Установлена корреляционная взаимосвязь увеличения прироста массы приемных пластин в результате осаждения на них частиц катодного вещества (Ti) и областей нарастающего магнитного поля. Проведена оценка величины максимально возможного коэффициента распыления Υcurr. Получены параметрические зависимости коэффициента распыления от показателя степенной функции, определяющего форму радиального профиля плотности плазмы, и от величины индукции магнитного поля. 2016 Article Mass distribution of sputtered cathode material in the reflex discharge along the magnetic field mirror configuration / Yu.V. Kovtun, E.I. Skibenko, A.I. Skibenko, A.S. Kuprin, A.N. Ozerov, E.V. Syus’ko, V.B. Yuferov // Вопросы атомной науки и техники. — 2016. — № 1. — С. 92-98. — Бібліогр.: 20 назв. — рос. 1562-6016 PACS: 52.80.Sm; 52.40.Hf http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/111743 en Вопросы атомной науки и техники Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
| institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| collection |
DSpace DC |
| language |
English |
| topic |
Физика и технология конструкционных материалов Физика и технология конструкционных материалов |
| spellingShingle |
Физика и технология конструкционных материалов Физика и технология конструкционных материалов Kovtun, Yu.V Skibenko, E.I. Skibenko, A.I. Kuprin, A.S. Ozerov, A.N. Syusko, E.V. Yuferov, V.B. Mass distribution of sputtered cathode material in the reflex discharge along the magnetic field mirror configuration Вопросы атомной науки и техники |
| description |
The paper is concerned with the distribution of cathode material sputtered under the action of the pulsed reflex discharge plasma and deposited on the anode surface (vacuum chamber) by means of a set of discrete receiving plates. Correlative relationship has been found between the weight gain increase of the receiving plates due to the deposition of cathode material (Ti) particles on them and the increasing magnetic field regions. The maximum possible sputtering yield Ycurr has been evaluated. The authors have deduced parametric dependences of the sputtering ratio on the power function exponent that determines the shape of the radial plasma-density profile, and also, on the magnetic field induction value. |
| format |
Article |
| author |
Kovtun, Yu.V Skibenko, E.I. Skibenko, A.I. Kuprin, A.S. Ozerov, A.N. Syusko, E.V. Yuferov, V.B. |
| author_facet |
Kovtun, Yu.V Skibenko, E.I. Skibenko, A.I. Kuprin, A.S. Ozerov, A.N. Syusko, E.V. Yuferov, V.B. |
| author_sort |
Kovtun, Yu.V |
| title |
Mass distribution of sputtered cathode material in the reflex discharge along the magnetic field mirror configuration |
| title_short |
Mass distribution of sputtered cathode material in the reflex discharge along the magnetic field mirror configuration |
| title_full |
Mass distribution of sputtered cathode material in the reflex discharge along the magnetic field mirror configuration |
| title_fullStr |
Mass distribution of sputtered cathode material in the reflex discharge along the magnetic field mirror configuration |
| title_full_unstemmed |
Mass distribution of sputtered cathode material in the reflex discharge along the magnetic field mirror configuration |
| title_sort |
mass distribution of sputtered cathode material in the reflex discharge along the magnetic field mirror configuration |
| publisher |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
| publishDate |
2016 |
| topic_facet |
Физика и технология конструкционных материалов |
| url |
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/111743 |
| citation_txt |
Mass distribution of sputtered cathode material in the reflex discharge along the magnetic field mirror configuration / Yu.V. Kovtun, E.I. Skibenko, A.I. Skibenko, A.S. Kuprin, A.N. Ozerov, E.V. Syus’ko, V.B. Yuferov // Вопросы атомной науки и техники. — 2016. — № 1. — С. 92-98. — Бібліогр.: 20 назв. — рос. |
| series |
Вопросы атомной науки и техники |
| work_keys_str_mv |
AT kovtunyuv massdistributionofsputteredcathodematerialinthereflexdischargealongthemagneticfieldmirrorconfiguration AT skibenkoei massdistributionofsputteredcathodematerialinthereflexdischargealongthemagneticfieldmirrorconfiguration AT skibenkoai massdistributionofsputteredcathodematerialinthereflexdischargealongthemagneticfieldmirrorconfiguration AT kuprinas massdistributionofsputteredcathodematerialinthereflexdischargealongthemagneticfieldmirrorconfiguration AT ozerovan massdistributionofsputteredcathodematerialinthereflexdischargealongthemagneticfieldmirrorconfiguration AT syuskoev massdistributionofsputteredcathodematerialinthereflexdischargealongthemagneticfieldmirrorconfiguration AT yuferovvb massdistributionofsputteredcathodematerialinthereflexdischargealongthemagneticfieldmirrorconfiguration |
| first_indexed |
2024-03-30T09:18:33Z |
| last_indexed |
2024-03-30T09:18:33Z |
| _version_ |
1796149812423294976 |