Local heating method for growth of aligned carbon nanotubes at low ambient temperature

We use a highly localised resistive heating technique to grow vertically aligned multiwalled nanotube films and aligned single-walled nanotubes on substrates with an average temperature of less than 100°C. The temperature at the catalyst can easily be as high as 1000 °C but an extremely high tempe...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2008
Автори: Dittmer, S., Mudgal, S., Nerushev, O.A., Campbell, E.E.B.
Формат: Стаття
Мова:English
Опубліковано: Фізико-технічний інститут низьких температур ім. Б.І. Вєркіна НАН України 2008
Назва видання:Физика низких температур
Теми:
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/117563
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Local heating method for growth of aligned carbon nanotubes at low ambient temperature / S. Dittmer, S. Mudgal, O.A. Nerushev, E.E.B. Campbell // Физика низких температур. — 2008. — Т. 34, № 10. — С. 1058-1062. — Бібліогр.: 10 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine