Classification of microdefects in semiconducting silicon

• Видавець: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
• Дата: 2003
• Автори: Talanin, V.I., Talanin, I.E.
• Формат: Стаття
• Мова: English
• Опубліковано: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2003
• Назва видання: Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics
• Онлайн доступ: http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/118081
• Цитувати: Classification of microdefects in semiconducting silicon / V.I. Talanin, I.E. Talanin // Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics. — 2003. — Т. 6, № 4. — С. 431-436. — Бібліогр.: 40 назв. — англ.

On the basis of experimental analysis (preferential etching, transmission electron microscopy) of the dislocation-free silicon single crystals grown by floating-zone method (FZ-Si) and Czochralski method (Cz-Si), a classification of grown-in microdefects was compiled. The suggested classification is...