Nucleation, growth and transformation of microdefects in FZ-Si
The physical model of microdefects formation in dislocation-free FZ-Si single crystals is offered. Experimental results and theoretical data allows to approve that recombination between vacancy and self-interstitials at high temperatures is hampered by an entropy barrier. Established is that the pro...
Збережено в:
| Дата: | 2004 |
|---|---|
| Автори: | , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | English |
| Опубліковано: |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
2004
|
| Назва видання: | Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics |
| Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/118108 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Nucleation, growth and transformation of microdefects in FZ-Si / V.I. Talanin, I.E. Talanin // Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics. — 2004. — Т. 7, № 1. — С. 16-21. — Бібліогр.: 50 назв. — англ. |