The simple approach to determination of active diffused phosphorus density in silicon
The diffusion of Phosphorus in silicon using a POCl₃ source has been considered. In the base of Fair-Tsai model of P-diffusion an empirical equation for calculation of active diffused phosphorus density (Qel), is proposed. In this equation, a relationship between (Qel), diffusion time, temperature a...
Збережено в:
| Дата: | 2004 |
|---|---|
| Автор: | |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | English |
| Опубліковано: |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
2004
|
| Назва видання: | Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics |
| Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/118109 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | The simple approach to determination of active diffused phosphorus density in silicon / M. Sasani // Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics. — 2004. — Т. 7, № 1. — С. 22-25. — Бібліогр.: 20 назв. — англ. |