Determination of interface state density in high-k dielectric-silicon system from conductance-frequency measurements
Capacitance-voltage (C-V ) and conductance-frequency ( G-ω ) techniques were modified in order to take into account the leakage current flowing through the metal-oxide-semiconductor (MOS) structure. The results of measurements of interface state densities in several high −k dielectric – silicon syst...
Збережено в:
| Дата: | 2012 |
|---|---|
| Автор: | |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | English |
| Опубліковано: |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
2012
|
| Назва видання: | Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics |
| Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/118255 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Determination of interface state density in high-k dielectric-silicon system from conductance-frequency measurements / Yu.V. Gomeniuk // Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics. — 2012. — Т. 15, № 1. — С. 1-7. — Бібліогр.: 22 назв. — англ. |