Zinc oxide for electronic, photovoltaic and optoelectronic applications
We demonstrate that the atomic layer deposition (ALD) technique has large potential to be widely used in a production of ZnO films for applications in electronic, photovoltaic (PV) and optoelectronic devices. Low growth temperature makes the ALD-grown ZnO films suitable for construction of various s...
Збережено в:
Дата: | 2011 |
---|---|
Автори: | , , , , , , , |
Формат: | Стаття |
Мова: | English |
Опубліковано: |
Фізико-технічний інститут низьких температур ім. Б.І. Вєркіна НАН України
2011
|
Назва видання: | Физика низких температур |
Теми: | |
Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/118518 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
Цитувати: | Zinc oxide for electronic, photovoltaic and optoelectronic applications / M. Godlewski, E. Guziewicz, K. Kopalko, G. Łuka, M.I. Łukasiewicz, T. Krajewski, B.S. Witkowski, S. Gierałtowska // Физика низких температур. — 2011. — Т. 37, № 3. — С. 301–307. — Бібліогр.: 44 назв. — англ. |