Short-wave photodetectors based on fine grain-sized poly-Si films
Photoelectric properties of polycrystalline silicon films under illumination were investigated. It was shown that polysilicon films with fine grain sizes may be used as short-wave photodetectors, due to presence of shallow p-n junctions at their grain boundaries.
Збережено в:
| Дата: | 2001 |
|---|---|
| Автор: | |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | English |
| Опубліковано: |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
2001
|
| Назва видання: | Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics |
| Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/119251 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Short-wave photodetectors based on fine grain-sized poly-Si films / F.G. Agaev // Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics. — 2001. — Т. 4, № 2. — С. 91-92. — Бібліогр.: 5 назв. — англ. |