Morphology change of the silicon surface induced by Ar+ ion beam sputtering
Two-level modeling for nanoscale pattern formation on silicon target by Ar+ ion sputtering is presented. Phase diagram illustrating possible nanosize surface patterns is discussed. Scaling characteristics for the structure wavelength dependence versus incoming ion energy are defined. Growth and roug...
Збережено в:
| Дата: | 2011 |
|---|---|
| Автори: | , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | English |
| Опубліковано: |
Інститут фізики конденсованих систем НАН України
2011
|
| Назва видання: | Condensed Matter Physics |
| Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/119981 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Morphology change of the silicon surface induced by Ar+ ion beam sputtering / V.O. Kharchenko, D.O. Kharchenko // Condensed Matter Physics. — 2011. — Т. 14, № 2. — С. 23602:1-11. — Бібліогр.: 27 назв. — англ. |