Hot wall growth and properties of lead telluride films doped by germanium and gallium

The researches results of films (PbTe)₁₋y(GaTe)y and (Pb₁₋xGexTe)₁₋y(GaTe)y of n-type conductivity with carrier concentration within (2⋅10¹⁷÷9⋅10¹⁸) cm⁻³ are represented. The films were growth by modified hot wall technology on barium fluoride substrate. A state of films surface was investigated by...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2000
Автори: Lashkarev, G.V., Radchenko, M.V., Slynko, E.I., Vodopiyanov, V.N., Asotsky, V.V., Kaminsky, V.M., Beketov, G.V., Rengevich, E.V.
Формат: Стаття
Мова:English
Опубліковано: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2000
Назва видання:Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/121178
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Hot wall growth and properties of lead telluride films doped by germanium and gallium / G.V. Lashkarev, M.V. Radchenko, E.I. Slynko, V.N. Vodopiyanov, V.V. Asotsky, V.M. Kaminsky, G.V. Beketov, E.V. Rengevich // Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics. — 2000. — Т. 3, № 3. — С. 295-299. — Бібліогр.: 13 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine