Electrical and optical parameters of Cu₆PS₅I-based thin films deposited using magnetron sputtering
Cu₆PS₅I-based thin films were deposited onto silicate glass substrates by nonreactive radio-frequency magnetron sputtering. The chemical composition of thin films was determined using energy-dispersive X-ray spectroscopy. Electrical conductivity of Cu₆PS₅I-based thin films was studied as dependent o...
Збережено в:
Дата: | 2016 |
---|---|
Автори: | , , , , , , , , , , , |
Формат: | Стаття |
Мова: | English |
Опубліковано: |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
2016
|
Назва видання: | Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics |
Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/121529 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
Цитувати: | Electrical and optical parameters of Cu₆PS₅I-based thin films deposited using magnetron sputtering / I.P. Studenyak, A.V. Bendak, V.Yu. Izai, P.P. Guranich, P. Kúš, M. Mikula, B. Grančič, M. Zahoran, J. Greguš, A. Vincze, T. Roch, T. Plecenik // Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics. — 2016. — Т. 19, № 1. — С. 79-83. — Бібліогр.: 17 назв. — англ. |