Some aspects of deposition of conductive, dielectric and protective coatings on insulators with using arc discharge dc and RF bias

Some aspects of deposition of conductive, dielectric and protective coatings on insulators with using arc discharge dc and RF bias

Investigation results for technological process of low temperature plasma deposition of functional coverings for dielectric substrate at low temperatures (50…250 oC) are shown. Combined high frequency and arc plasma sources were used to provide high deposition rate and an opportunity to operate with...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2017
Автори: Taran, V.S., Muratov, R.M., Nezovibat'ko, Y.N., Leonovych, A.V., Sergiiets, M.A.
Формат: Стаття
Мова:English
Опубліковано: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2017
Назва видання:Вопросы атомной науки и техники
Теми:
Диагностика плазмы
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/122183
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Some aspects of deposition of conductive, dielectric and protective coatings on insulators with using arc discharge dc and RF bias / V.S. Taran, R.M. Muratov, Y.N. Nezovibat'ko, A.V. Leonovych, M.A. Sergiiets // Вопросы атомной науки и техники. — 2017. — № 1. — С. 265-268. — Бібліогр.: 4 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id irk-123456789-122183
record_format dspace
spelling irk-123456789-1221832017-06-29T03:02:51Z Some aspects of deposition of conductive, dielectric and protective coatings on insulators with using arc discharge dc and RF bias Taran, V.S. Muratov, R.M. Nezovibat'ko, Y.N. Leonovych, A.V. Sergiiets, M.A. Диагностика плазмы Investigation results for technological process of low temperature plasma deposition of functional coverings for dielectric substrate at low temperatures (50…250 oC) are shown. Combined high frequency and arc plasma sources were used to provide high deposition rate and an opportunity to operate with heat sensitive substrate such as plastic, glass etc. Using this method there were obtained: pads on detectors of ionizing radiation, optically transparent protecting coverings for plexiglass, connecting coverings on mica for ultra-frequency emitter. Показаны результаты исследования технологического процесса низкотемпературного плазменного осаждения функциональных покрытий для диэлектрической подложки при низких температурах (50…250 °С). Для обеспечения высокой скорости осаждения и возможности работать с теплочувствительными подложками, такими как пластик, стекло, были использованы комбинированные высокочастотные и дуговые источники плазмы. С помощью этого метода были получены: детекторы ионизирующего излучения, оптически прозрачные покрытия для плексигласа, соединительные покрытия на слюде для ультрачастотного излучателя. Показано результати дослідження технологічного процесу низькотемпературного плазмового осадження функціональних покриттів для діелектричної підкладки, при низьких температурах (50…250 °С). Комбіновані високочастотний і дуговий джерела плазми були використані для забезпечення високої швидкості осадження і можливість працювати з теплочутливою підкладкою, такою як пластик, скло і т. д. За допомогою цього методу були отримані: детектори іонізуючого випромінювання, оптично прозорі захисні покриття для плексигласу, з'єднувальні покриття на слюді для ультрачастотного випромінювача. 2017 Article Some aspects of deposition of conductive, dielectric and protective coatings on insulators with using arc discharge dc and RF bias / V.S. Taran, R.M. Muratov, Y.N. Nezovibat'ko, A.V. Leonovych, M.A. Sergiiets // Вопросы атомной науки и техники. — 2017. — № 1. — С. 265-268. — Бібліогр.: 4 назв. — англ. 1562-6016 PACS: 52.77.Dq, 51.30.+i http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/122183 en Вопросы атомной науки и техники Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
language English
topic Диагностика плазмы
Диагностика плазмы
spellingShingle Диагностика плазмы
Диагностика плазмы
Taran, V.S.
Muratov, R.M.
Nezovibat'ko, Y.N.
Leonovych, A.V.
Sergiiets, M.A.
Some aspects of deposition of conductive, dielectric and protective coatings on insulators with using arc discharge dc and RF bias
Вопросы атомной науки и техники
description Investigation results for technological process of low temperature plasma deposition of functional coverings for dielectric substrate at low temperatures (50…250 oC) are shown. Combined high frequency and arc plasma sources were used to provide high deposition rate and an opportunity to operate with heat sensitive substrate such as plastic, glass etc. Using this method there were obtained: pads on detectors of ionizing radiation, optically transparent protecting coverings for plexiglass, connecting coverings on mica for ultra-frequency emitter.
format Article
author Taran, V.S.
Muratov, R.M.
Nezovibat'ko, Y.N.
Leonovych, A.V.
Sergiiets, M.A.
author_facet Taran, V.S.
Muratov, R.M.
Nezovibat'ko, Y.N.
Leonovych, A.V.
Sergiiets, M.A.
author_sort Taran, V.S.
title Some aspects of deposition of conductive, dielectric and protective coatings on insulators with using arc discharge dc and RF bias
title_short Some aspects of deposition of conductive, dielectric and protective coatings on insulators with using arc discharge dc and RF bias
title_full Some aspects of deposition of conductive, dielectric and protective coatings on insulators with using arc discharge dc and RF bias
title_fullStr Some aspects of deposition of conductive, dielectric and protective coatings on insulators with using arc discharge dc and RF bias
title_full_unstemmed Some aspects of deposition of conductive, dielectric and protective coatings on insulators with using arc discharge dc and RF bias
title_sort some aspects of deposition of conductive, dielectric and protective coatings on insulators with using arc discharge dc and rf bias
publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
publishDate 2017
topic_facet Диагностика плазмы
url http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/122183
citation_txt Some aspects of deposition of conductive, dielectric and protective coatings on insulators with using arc discharge dc and RF bias / V.S. Taran, R.M. Muratov, Y.N. Nezovibat'ko, A.V. Leonovych, M.A. Sergiiets // Вопросы атомной науки и техники. — 2017. — № 1. — С. 265-268. — Бібліогр.: 4 назв. — англ.
series Вопросы атомной науки и техники
work_keys_str_mv AT taranvs someaspectsofdepositionofconductivedielectricandprotectivecoatingsoninsulatorswithusingarcdischargedcandrfbias
AT muratovrm someaspectsofdepositionofconductivedielectricandprotectivecoatingsoninsulatorswithusingarcdischargedcandrfbias
AT nezovibatkoyn someaspectsofdepositionofconductivedielectricandprotectivecoatingsoninsulatorswithusingarcdischargedcandrfbias
AT leonovychav someaspectsofdepositionofconductivedielectricandprotectivecoatingsoninsulatorswithusingarcdischargedcandrfbias
AT sergiietsma someaspectsofdepositionofconductivedielectricandprotectivecoatingsoninsulatorswithusingarcdischargedcandrfbias
first_indexed 2023-10-18T20:41:15Z
last_indexed 2023-10-18T20:41:15Z
_version_ 1796150849511096320

Схожі ресурси