Stydy on resistivity and micostructure of magnetron sputtered α-C:Si films

• Дата: 2006
• Автори: Onoprienko, A.A., Yanchuk, I.B.
• Формат: Стаття
• Мова: English
• Опубліковано: НТК «Інститут монокристалів» НАН України 2006
• Назва видання: Functional Materials
• Онлайн доступ: http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/135059
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Цитувати: Stydy on resistivity and micostructure of magnetron sputtered α-C:Si films / A.A. Onoprienko, I.B. Yanchuk // Functional Materials. — 2006. — Т. 13, № 4. — С. 652-656. — Бібліогр.: 17 назв. — англ.

Electric resistivity and microstructure of silicon-doped (5 to 38 at. % Si) amorphous carbon (α-C) films deposited by de magnetron sputtering in argon plasma of composed (graphite + single crystalline silicon) target has been studied as a function of silicon content in films. The film resistivity pa...