Неравновесные процессы на контакте полупроводник – плазма газового разряда

Теоретически рассмотрены особенности плазменных контактов полупроводника в сверхтонкой газоразрядной ячейке, в частности рассмотрена кинетика нарастания потока носителей при включении прямоугольной ступени напряжения. Рассмотрен более сложный случай, когда последовательно со слоем фоточувствительног...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2018
Автор: Хайдаров, З.
Формат: Стаття
Мова:Russian
Опубліковано: Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України 2018
Назва видання:Журнал физики и инженерии поверхности
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/168194
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Неравновесные процессы на контакте полупроводник – плазма газового разряда / З. Хайдаров // Журнал фізики та інженерії поверхні. — 2018. — Т. 3, № 2. — С. 72-77. — Бібліогр.: 5 назв. — рос.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine