Progress in riboon ion beam implantation systems development

• Дата: 2010
• Автори: Masunov, E.S., Polozov, S.M., Kozlov, A.V., Kuibeda, R.P., Kulevoy, T.V., Seleznev, D.N.
• Формат: Стаття
• Мова: English
• Опубліковано: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2010
• Теми: Применение ускорителей
• Онлайн доступ: http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/17041
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Цитувати: Progress in riboon ion beam implantation systems development / E.S. Masunov, S.M. Polozov, A.V. Kozlov, R.P. Kuibeda, T.V. Kulevoy, D.N. Seleznev // Вопросы атомной науки и техники. — 2010. — № 3. — С. 177-179. — Бібліогр.: 5 назв. — англ.

The ribbon ion sources for ion implantation are under developing in ITEP during last 5 years. The several versions of Bernas ion source are used for ribbon ion beam production. The beam transport for low energy ribbon beam is one of main problems for ion implantation. The progress in ion sources an...