Элементарная плазмооптическая ячейка в режиме прямого магнетрона

Предложено новое плазмооптическое устройство, представляющее собой элементарную плазмооптическую цилиндрическую ячейку с газовым разрядом магнетронного типа в режиме прямого магнетрона. Устройство может работать в высоковольтном слаботочном режиме и в сильноточном с генерацией плазменного факела. По...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2010
Автори: Гончаров, А.А., Добровольский, А.Н., Евсюков, А.Н., Проценко, И.М.
Формат: Стаття
Мова:Russian
Опубліковано: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2010
Теми:
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/17298
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Элементарная плазмооптическая ячейка в режиме прямого магнетрона / А.А. Гончаров, А.Н. Добровольский, А.Н. Евсюков, И.М. Проценко // Вопросы атомной науки и техники. — 2010. — № 4. — С. 51-54. — Бібліогр.: 10 назв. — рос.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id irk-123456789-17298
record_format dspace
spelling irk-123456789-172982011-02-26T12:03:48Z Элементарная плазмооптическая ячейка в режиме прямого магнетрона Гончаров, А.А. Добровольский, А.Н. Евсюков, А.Н. Проценко, И.М. Нерелятивистская электроника Предложено новое плазмооптическое устройство, представляющее собой элементарную плазмооптическую цилиндрическую ячейку с газовым разрядом магнетронного типа в режиме прямого магнетрона. Устройство может работать в высоковольтном слаботочном режиме и в сильноточном с генерацией плазменного факела. Получена скорость травления (100…150 нм/мин) в слаботочном режиме и на порядок больше в сильноточном. Плотность тока в факеле составляет до 3% от плотности тока разряда и плавающий потенциал − до 0,8 анодного потенциала. Запропоновано новий плазмооптичний пристрій, що є елементарною плазмооптичною циліндричною коміркою з газовим розрядом магнетронного типу в режимі прямого магнетрону. Пристрій може працювати як у високовольтному режимі з малим струмом, так і в режимі з великим струмом з генерацією плазмового факелу. Отримано швидкість травлення 100…150 нм/хв у режимі з малим струмом і на порядок більше у режимі з великим струмом. Щільність струму у плазмовому факелі до 3% від густини струму розряду і плаваючий потенціал − до 0,8 анодного потенціалу. It is offered the new plasmaoptics device that are representing an elementary plasmaoptics cylindrical cell with the gas discharge of magnetron type in a mode of direct magnetron. Such device can work both in a high-voltage low-current mode and in high-current low-voltage with generation of a plasma torch. The measured rate of etching is about 100…150 nm/min in the low-current high-voltage discharge and on the order rises in high-current mode. Density of torch current up to 3% from density of discharge current and the floating potential up to 0,8 from the anode potential are formed. 2010 Article Элементарная плазмооптическая ячейка в режиме прямого магнетрона / А.А. Гончаров, А.Н. Добровольский, А.Н. Евсюков, И.М. Проценко // Вопросы атомной науки и техники. — 2010. — № 4. — С. 51-54. — Бібліогр.: 10 назв. — рос. 1562-6016 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/17298 533.9 ru Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
language Russian
topic Нерелятивистская электроника
Нерелятивистская электроника
spellingShingle Нерелятивистская электроника
Нерелятивистская электроника
Гончаров, А.А.
Добровольский, А.Н.
Евсюков, А.Н.
Проценко, И.М.
Элементарная плазмооптическая ячейка в режиме прямого магнетрона
description Предложено новое плазмооптическое устройство, представляющее собой элементарную плазмооптическую цилиндрическую ячейку с газовым разрядом магнетронного типа в режиме прямого магнетрона. Устройство может работать в высоковольтном слаботочном режиме и в сильноточном с генерацией плазменного факела. Получена скорость травления (100…150 нм/мин) в слаботочном режиме и на порядок больше в сильноточном. Плотность тока в факеле составляет до 3% от плотности тока разряда и плавающий потенциал − до 0,8 анодного потенциала.
format Article
author Гончаров, А.А.
Добровольский, А.Н.
Евсюков, А.Н.
Проценко, И.М.
author_facet Гончаров, А.А.
Добровольский, А.Н.
Евсюков, А.Н.
Проценко, И.М.
author_sort Гончаров, А.А.
title Элементарная плазмооптическая ячейка в режиме прямого магнетрона
title_short Элементарная плазмооптическая ячейка в режиме прямого магнетрона
title_full Элементарная плазмооптическая ячейка в режиме прямого магнетрона
title_fullStr Элементарная плазмооптическая ячейка в режиме прямого магнетрона
title_full_unstemmed Элементарная плазмооптическая ячейка в режиме прямого магнетрона
title_sort элементарная плазмооптическая ячейка в режиме прямого магнетрона
publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
publishDate 2010
topic_facet Нерелятивистская электроника
url http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/17298
citation_txt Элементарная плазмооптическая ячейка в режиме прямого магнетрона / А.А. Гончаров, А.Н. Добровольский, А.Н. Евсюков, И.М. Проценко // Вопросы атомной науки и техники. — 2010. — № 4. — С. 51-54. — Бібліогр.: 10 назв. — рос.
work_keys_str_mv AT gončarovaa élementarnaâplazmooptičeskaââčejkavrežimeprâmogomagnetrona
AT dobrovolʹskijan élementarnaâplazmooptičeskaââčejkavrežimeprâmogomagnetrona
AT evsûkovan élementarnaâplazmooptičeskaââčejkavrežimeprâmogomagnetrona
AT procenkoim élementarnaâplazmooptičeskaââčejkavrežimeprâmogomagnetrona
first_indexed 2023-10-18T16:59:42Z
last_indexed 2023-10-18T16:59:42Z
_version_ 1796140408976179200