Влияние оксидных слоев на электрокристаллизацию бериллия в хлоридном расплаве
Необходимо было исследовать влияние степени окисления поверхностных слоев подложки на зародышеобразование кристаллов при электроосаждении бериллия. Повышенная склонность его хлорида к гидролизу и исключительная способность металла к сорбции примесей и образованию прочных поверхностных соединений явл...
Gespeichert in:
| Datum: | 1983 |
|---|---|
| Hauptverfasser: | , , |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | Russian |
| Veröffentlicht: |
Інститут загальної та неорганічної хімії ім. В.І. Вернадського НАН України
1983
|
| Schriftenreihe: | Украинский химический журнал |
| Schlagworte: | |
| Online Zugang: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/182813 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Zitieren: | Влияние оксидных слоев на электрокристаллизацию бериллия в хлоридном расплаве / В.И.Шаповал, Н.Я. Чукреев, В.А. Полищук // Украинский химический журнал. — 1983. — Т. 49, № 8. — С. 841-845. — Бібліогр.: 12назв. — рос. |