Состав катодных осадков при электролизе растворов диоксида кремния во фторидных расплавах
Изучено содержание K₂SiF₆ в осадке, образующемся при электролизе растворов SiO₂ в расплаве KCI-КF-К₂SiF₆ состава, близкого к тройной эвтектике KCI-КF-К₃SiF₇. Показано, что осадки с высокой концентрацией K₂SiF₆ образуются, когда состав расплава-растворителя SiO₂ совпадает на фазовой диаграмме с полем...
Збережено в:
Дата: | 1997 |
---|---|
Автори: | , , , , |
Формат: | Стаття |
Мова: | Russian |
Опубліковано: |
Інститут загальної та неорганічної хімії ім. В.І. Вернадського НАН України
1997
|
Назва видання: | Украинский химический журнал |
Теми: | |
Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/183343 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
Цитувати: | Состав катодных осадков при электролизе растворов диоксида кремния во фторидных расплавах / А.А. Андрийко, Э.В. Панов, О.И. Бойко, Б.В. Яковлев, О.Я. Боровик // Украинский химический журнал. — 1997. — Т. 63, № 9. — С. 7-10. — Бібліогр.: 18 назв. — рос. |