Deuterium trapping and sputtering of tungsten coatings exposed to low-energy deuterium plasma

• Дата: 2020
• Автори: Tolstolutskaya, G.D., Kuprin, A.S., Nikitin, A.V., Kopanets, I.E., Voyevodin, V.N., Kolodiy, I.V., Vasilenko, R.L., Ilchenko, A.V.
• Формат: Стаття
• Мова: English
• Опубліковано: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2020
• Назва видання: Вопросы атомной науки и техники
• Теми: Physics of radiation damages and effects in solids
• Онлайн доступ: http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/194363
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Цитувати: Deuterium trapping and sputtering of tungsten coatings exposed to low-energy deuterium plasma / G.D. Tolstolutskaya, A.S. Kuprin, A.V. Nikitin, I.E. Kopanets, V.N. Voyevodin, I.V. Kolodiy, R.L. Vasilenko, A.V. Ilchenko // Problems of atomic science and tecnology. — 2020. — № 2. — С. 54-59. — Бібліогр.: 23 назв. — англ.

Processes of sputtering, surface modification and deuterium retention of tungsten coatings were studied under the influence of low-energy (500 eV) deuterium plasma with fluence (2·10²⁴D+/m²) at room temperature. The method of cathodic arc evaporation was used to deposit W and WN-coatings on stainles...