Ion-plasma deposition of thin quasicrystalline Al-Cu-Fe and Al-Cu-Co films
Al-Cu-Fe and Al-Co-Cu thin films were firstly deposited on sodium chloride or glass-ceramic substrates by modernized method of three-electrode ion-plasma sputtering. The nominal compositions of the films were chosen in the regions of quasicrystalline phases formation. The as-sputtered films were typ...
Збережено в:
| Дата: | 2020 |
|---|---|
| Автори: | , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | English |
| Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2020
|
| Назва видання: | Вопросы атомной науки и техники |
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/194377 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Ion-plasma deposition of thin quasicrystalline Al-Cu-Fe and Al-Cu-Co films / S.I. Ryabtsev, O.V. Sukhova // Problems of atomic science and tecnology. — 2020. — № 2. — С. 145-150. — Бібліогр.: 32 назв. — англ. |