Redistribution of sputtered material in a plane ion-plasma system with an abnormal glow discharge
The redistribution of the flow of sputtered material of a target (cathode) between the collector and the target in a plane–parallel electrode system with an anomalous glow discharge is analyzed in the kinetic approximation. Sputtering is the result of bombardment of the target by gas ions accelerate...
Збережено в:
| Дата: | 2020 |
|---|---|
| Автори: | , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | English |
| Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2020
|
| Назва видання: | Вопросы атомной науки и техники |
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/194653 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Redistribution of sputtered material in a plane ion-plasma system with an abnormal glow discharge / A.I. Kuzmichev, M.S. Melnichenko, V.G. Shinkarenko, V.M. Shulaev // Problems of atomic science and tecnology. — 2020. — № 6. — С. 103-106. — Бібліогр.: 10 назв. — англ. |