Characteristics of TiN coating deposited by vacuum-arc method on rotating cylindrical sample

The dependences of the growth rate and intrinsic stress on the accelerating potential for coating TiN deposited from the Ti⁺ ion flow on the surface of cylindrical article are investigated theoretically. The sample rotates around the symmetry axis perpendicular to the flow of incident ions. The stud...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2019
Автори: Kalinichenko, A.I., Strel’nitskij, V.E.
Формат: Стаття
Мова:English
Опубліковано: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2019
Назва видання:Вопросы атомной науки и техники
Теми:
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/194704
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Characteristics of TiN coating deposited by vacuum-arc method on rotating cylindrical sample / A.I. Kalinichenko, V.E. Strel’nitskij // Problems of atomic science and technology. — 2019. — № 1. — С. 142-144. — Бібліогр.: 6 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id irk-123456789-194704
record_format dspace
spelling irk-123456789-1947042023-11-29T11:12:34Z Characteristics of TiN coating deposited by vacuum-arc method on rotating cylindrical sample Kalinichenko, A.I. Strel’nitskij, V.E. Low temperature plasma and plasma technologies The dependences of the growth rate and intrinsic stress on the accelerating potential for coating TiN deposited from the Ti⁺ ion flow on the surface of cylindrical article are investigated theoretically. The sample rotates around the symmetry axis perpendicular to the flow of incident ions. The study is carried out within the framework of the model of the nonlocal thermoelastic peak of the low-energy ion, taking into account the sputtering of the coating atoms. The cases of the DC mode and the pulsed potential mode are considered. It is shown that the intrinsic stress in the coating TiN to be deposited on the rotating cylinder are ~ 20 % less than in the coating deposited on the flat substrate located perpendicular to the incident ion flow. Теоретично досліджуються залежності швидкості росту і внутрішнього напруження від прискорюючого потенціалу для покриття TiN, що осаджується з потоку іонів Ti⁺ на поверхню циліндричного виробу, що обертається навколо осі симетрії, розташованої перпендикулярно потоку падаючих іонів. Дослідження проводиться в рамках моделі нелокального термопружного піку низькоенергетичного іона з урахуванням процесів розпилення атомів покриття. Розглянуто випадки постійного та імпульсного потенціалів на підкладці. Показано, що внутрішні напруження в покритті TiN, що осаджується на циліндр, що обертається, на ~ 20 % менше, ніж у покритті, що осаджується на плоску підкладку, розташовану перпендикулярно падаючому потоку іонів. Теоретически исследуются зависимости скорости роста и внутренних напряжений от ускоряющего потенциала для покрытия TiN, осаждаемого из потока ионов Ti⁺ на поверхность цилиндрического изделия, вращающегося вокруг оси симметрии, расположенной перпендикулярно потоку падающих ионов. Исследование проводится в рамках модели нелокального термоупругого пика низкоэнергетического иона с учетом процессов распыления атомов покрытия. Рассмотрены случаи постоянного и импульсного потенциалов на подложке. Показано, что внутренние напряжения в покрытии TiN, осаждаемом на вращающийся цилиндр, на ~20 % меньше, чем в покрытии, осаждаемом на плоскую подложку, расположенную перпендикулярно падающему потоку ионов. 2019 Article Characteristics of TiN coating deposited by vacuum-arc method on rotating cylindrical sample / A.I. Kalinichenko, V.E. Strel’nitskij // Problems of atomic science and technology. — 2019. — № 1. — С. 142-144. — Бібліогр.: 6 назв. — англ. 1562-6016 PACS: 61.80.Az, 81.65.-b http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/194704 en Вопросы атомной науки и техники Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
language English
topic Low temperature plasma and plasma technologies
Low temperature plasma and plasma technologies
spellingShingle Low temperature plasma and plasma technologies
Low temperature plasma and plasma technologies
Kalinichenko, A.I.
Strel’nitskij, V.E.
Characteristics of TiN coating deposited by vacuum-arc method on rotating cylindrical sample
Вопросы атомной науки и техники
description The dependences of the growth rate and intrinsic stress on the accelerating potential for coating TiN deposited from the Ti⁺ ion flow on the surface of cylindrical article are investigated theoretically. The sample rotates around the symmetry axis perpendicular to the flow of incident ions. The study is carried out within the framework of the model of the nonlocal thermoelastic peak of the low-energy ion, taking into account the sputtering of the coating atoms. The cases of the DC mode and the pulsed potential mode are considered. It is shown that the intrinsic stress in the coating TiN to be deposited on the rotating cylinder are ~ 20 % less than in the coating deposited on the flat substrate located perpendicular to the incident ion flow.
format Article
author Kalinichenko, A.I.
Strel’nitskij, V.E.
author_facet Kalinichenko, A.I.
Strel’nitskij, V.E.
author_sort Kalinichenko, A.I.
title Characteristics of TiN coating deposited by vacuum-arc method on rotating cylindrical sample
title_short Characteristics of TiN coating deposited by vacuum-arc method on rotating cylindrical sample
title_full Characteristics of TiN coating deposited by vacuum-arc method on rotating cylindrical sample
title_fullStr Characteristics of TiN coating deposited by vacuum-arc method on rotating cylindrical sample
title_full_unstemmed Characteristics of TiN coating deposited by vacuum-arc method on rotating cylindrical sample
title_sort characteristics of tin coating deposited by vacuum-arc method on rotating cylindrical sample
publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
publishDate 2019
topic_facet Low temperature plasma and plasma technologies
url http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/194704
citation_txt Characteristics of TiN coating deposited by vacuum-arc method on rotating cylindrical sample / A.I. Kalinichenko, V.E. Strel’nitskij // Problems of atomic science and technology. — 2019. — № 1. — С. 142-144. — Бібліогр.: 6 назв. — англ.
series Вопросы атомной науки и техники
work_keys_str_mv AT kalinichenkoai characteristicsoftincoatingdepositedbyvacuumarcmethodonrotatingcylindricalsample
AT strelnitskijve characteristicsoftincoatingdepositedbyvacuumarcmethodonrotatingcylindricalsample
first_indexed 2024-03-31T09:12:32Z
last_indexed 2024-03-31T09:12:32Z
_version_ 1796157977547243520